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下列关于物质的用途及反应方程式的叙述不正确的是( ) A.印刷电路板时用FeCl...

下列关于物质的用途及反应方程式的叙述不正确的是(   )

A.印刷电路板时用FeCl3作为腐蚀液:2Fe3+ + Cu == 2Fe2+ + Cu2+

B.HF雕刻玻璃:SiO2 + 4HF == SiF4↑ + 2H2O

C.高炉炼铁的主要原理:CO + FeO == Fe + CO2

D.小苏打做发酵粉:2NaHCO3 == Na2CO3 + H2O + CO2

 

C 【解析】 A. 制作印刷电路板时用FeCl3作为腐蚀液,氯化铁和铜反应生成氯化亚铁和氯化铜,反应的离子方程式是2Fe3+ + Cu == 2Fe2+ + Cu2+,故A正确; B. 二氧化硅与氢氟酸反应生成四氟化硅气体和水,用HF雕刻玻璃的化学方程式是SiO2 + 4HF == SiF4↑ + 2H2O,故B正确; C. 高炉炼铁的主要原理是高温条件下用一氧化碳还原氧化铁,反应方程式是3CO + Fe2O3 2Fe + 3CO2,故C错误; D. 碳酸氢钠加热分解为碳酸钠、二氧化碳、水,小苏打做发酵粉的反应方程式是2NaHCO3 Na2CO3 + H2O + CO2↑,故D正确; 故答案选C。  
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考点分析:
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关于反应3Cu8HNO3()===3Cu(NO3)22NO↑4H2O判断正确的是(   )

A.铜元素在反应过程中被氧化,做氧化剂

B.硝酸在反应过程中全部被还原,硝酸铜是氧化产物

C.该反应中被氧化与被还原的原子个数比为3:8

D.金属铜不能与盐酸发生化学反应,根据上述知识得知HNO3的氧化性大于HCl

 

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完成下列实验所选择的装置或仪器(夹持装置已略去)正确的是(   

 

A

B

C

D

实验

制取少量纯净的CO2气体

CCl4提取溴水中的Br2

除去CO2中少量的HCl

蒸干NaCl饱和溶液制备NaCl晶体

装置或仪器

 

 

 

 

A.A B.B C.C D.D

 

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实验过程中,下列溶液的导电能力变化不大的是

A.Ba(OH)2溶液中滴入H2SO4溶液 B.醋酸溶液中滴入氨水至过量

C.澄清石灰水中通入CO2 D.NH4Cl溶液中加入适量的NaOH固体

 

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下列反应的描述与离子方程式都正确的是(  )

A.氯气溶于水:Cl2H2O=2HClClO

B.氢氧化钡溶液与硫酸溶液反应,溶液恰好呈中性OH-+Ba2++H++SO42-=BaSO4+H2O

C.氢氧化铜加到盐酸中,无明显现象:Cu(OH)2+2H+=Cu2++2H2O

D.碳酸钡中加入稀盐酸,固体溶解,生成无色无味气体:BaCO3+2H+=Ba2++CO2↑+H2O

 

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新型净水剂Na2FeO4能够发生下列反应①Na2FeO4+2KOH=K2FeO4+2NaOH  2FeCl3+10NaOH+3NaC1O=2Na2FeO4+9NaCl+5H2O下列说法不正确的是(    )

A.Na2FeO4Fe+6价,具有强氧化性,能杀菌消毒

B.反应②中NaClO是氧化剂

C.反应①为复分解反应,反应②为氧化还原反应

D.KI溶液中同时滴加NaClOFeCl3溶液,首先发生反应2Fe3+ + 2I- == 2Fe2+ + I2

 

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