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安徽省淮北市高中化学必修1-4.1 《无机非金属材料--硅 碳和硅的性质》 跟进作业案 (第一课时)
一、单选题
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1. 难度:中等

能用带磨砂玻璃塞的试剂瓶盛放的物质是(    

①石英砂   ②过氧化钠   ③烧碱   ④纯碱   Na2SO4溶液

A.①和⑤ B.②和③

C.④和⑤ D.③和④

 

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2. 难度:中等

下列关于硅的说法正确的是(    

A.硅是非金属元素,但它的单质是灰黑色有金属光泽的固体

B.硅的导电性能介于金属和绝缘体之间,是良好的半导体材料

C.硅的化学性质不活泼,常温下不与任何物质起反应

D.当加热到一定温度时,硅能与氧气、氢气等非金属反应

 

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3. 难度:中等

在一定条件下,下列物质与硅、二氧化硅均不反应的是(    

A.氢氟酸 B.浓硫酸

C.烧碱 D.氟气

 

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4. 难度:中等

下列离子方程式书写正确的是(    

A.向氢氧化钠溶液中通入过量二氧化碳:CO2OH=HCO3-

B.单质硅与氢氟酸反应:Si4HF=2H2SiF4

C.石英砂与烧碱反应:SiO22OH=SiO32-H2O

D.Ba(NO3)2溶液中通入二氧化碳:Ba2CO2H2O=BaCO32H

 

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5. 难度:中等

15gSiO2和足量的碳在高温下发生反应:SiO22CSi2CO↑。下列叙述中正确的是(    

A.氧化剂和还原剂的质量之比为12

B.SiO2是还原剂

C.反应中有6g碳被氧化

D.反应中生成了28gCO

 

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6. 难度:简单

下列物质中,导电性介于导体和绝缘体之间的是(    

①晶体硅   ②金属铝   ③石墨   ④晶体锗   ⑤金刚石

A.只有① B.只有⑤

C.②和③ D.①和④

 

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7. 难度:中等

能说明SiO2为酸性氧化物的事实为(    

A.SiO2H2SO4HNO3不反应 B.SiO24HF=SiF42H2O

C.SiO22KOH=K2SiO3H2O D.SiO22CSi2CO↑

 

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8. 难度:中等

在一定条件下,下列物质不能和SiO2反应的是(    

①焦炭   ②烧碱   ③氧气   ④氢氟酸   ⑤硝酸  ⑥氢氧化钾   ⑦氧化钙

A.②⑥⑦ B.⑤⑦

C.①④⑤ D.③⑤

 

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9. 难度:简单

下列物质的变化,不能通过一步化学反应完成的是

A.CO2→H2CO3 B.SiO2→H2SiO3  C.Na2O2→Na2CO3 D.SiO2→Na2SiO3

 

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10. 难度:中等

下列各组物质中,满足下图物质一步转化关系的选项是

选项

X

Y

Z

A

Na

NaOH

NaHCO3

B

Cu

CuSO4

Cu(OH)2

C

C

CO

CO2

D

Si

SiO2

H2SiO3

 

 

A.A B.B C.C D.D

 

二、填空题
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11. 难度:中等

如何除去下列各粉末状混合物中的杂质(括号内为杂质)?请选用下列提供的试剂和操作,将标号填在表内。

试剂:A.盐酸   B.烧碱溶液   C.氧气   D.水   E.二氧化碳   F.不用其他试剂

操作:①加热燃烧   ②加热熔融   ③充分加热   ④过滤   ⑤结晶

物质

试剂

操作

1Na2CO3(NaHCO3)

___

___

2SiO2(CaO)

___

___

3SiO2(Si)

___

___

4NaCl(SiO2)

___

___

 

 

 

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12. 难度:中等

从硅的氧化物可以制取硅单质,主要化学反应如下:粗硅的制取:

由粗硅制纯硅(常用方法)Si()2Cl2SiCl4   SiCl42H2Si()4HCl

根据以上反应,回答下列问题。

1)在制取粗硅的反应中,焦炭的作用是什么___

2)在由粗硅制纯硅的反应中,氯气(Cl2)Si的反应属于什么类型的反应___SiCl4H2的反应属于什么类型的反应___H2的作用是什么___

 

 

3)在半导体工业中有这样一句行话:从沙滩到用户,你是如何理解的___

 

三、实验题
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13. 难度:中等

晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:

①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;

②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3Si3HClSiHCl3H2

SiHCl3与过量H21 0001 100 ℃反应制得纯硅已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。

请回答下列问题:

(1)第①步制备粗硅的化学方程式为_____________________________________________

(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 )中含有少量SiCl4(沸点57.6 )HCl(沸点-84.7 ),提纯SiHCl3采用的方法为___________________________

(3)SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)

①装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是________________________________________________________________

②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________,装置D中发生反应的化学方程式为_____________________________________________________________

③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及___________________________________________________________

 

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