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(2009•南京)从20世纪中叶开始,硅成了信息技术的关键材料,是目前应用最多的半导体材料.请回答-下列问题:
(1)地壳里各种元素的含量(质量分数)如右图所示,其中表示硅元素的是
(填字母).
(2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,则常温下硅的化学性质
(选琐“活泼”、“不活泼”).
(3)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅,三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法.生产过程示意如下:manfen5.com 满分网
①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是

②在生产过程中物质A可循环使用,A的化学式是
;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是

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(1)地壳里含量前四位的元素:氧元素、硅元素、铝元素、铁元素; (2)根据元素周期表可知,原子序数为6的碳原子和原子序数为14的硅原子最外层电子数均为4,其化学性质相似,不易的电子,也不易失电子,故较稳定; (3)①在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,考虑氢气不纯,可能会爆炸; ②三氯甲硅烷(SiHCl3)与氢气反应,根据质量守恒定律的元素守恒,会反应生成硅和氯化氢,则氯化氢和焦炭都可循环使用. 【解析】 (1)因为硅元素在地壳里含量是第二位,故选B; (2)利用知识迁移的方法,碳元素的化学性质较稳定,而硅元素的最外层电子数与之同,则其化学性质也应较稳定,故常温下硅的化学性质不活泼; (3)①整个制备过程必须达到无水无氧.在H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是爆炸; ②在生产过程中物质A可循环使用,根据质量守恒定律的元素守恒,生成物A的化学式是HCl;在生产过程中还有一种可循环使用的物质是焦炭. 故答为:(1)B;(2)不活泼;(3)①爆炸;②HCl;焦炭.
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考点分析:
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试题属性
  • 题型:填空题
  • 难度:中等

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