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高纯度的单晶硅是制做电子集成电路的基础材料。工业上制备高纯硅的化学反应原理为: ...

高纯度的单晶硅是制做电子集成电路的基础材料。工业上制备高纯硅的化学反应原理为:

SiO2+2CSi +2CO↑、②Si+3HClHSiCl3+H2、③HSiCl3+H2Si+3X,反应制得粗硅,通过反应②③进一步得到高纯硅;三氯硅烷(HSiCl3)的沸点是31.8℃。下列有关说法不正确的是

A. 反应X的化学式为HCl

B. 三氯硅烷由氢、硅、氯三种元素组成

C. 三氯硅烷中硅、氯元素的质量比为1∶3

D. 反应②③实现了硅元素的富集,将粗硅转化为高纯硅

 

C 【解析】 根据质量守恒定律,反应前后原子个数不变,原子质量不变。 A、反应③HSiCl3+H2Si+3X,根据质量守恒定律,反应前后原子个数不变,则X的化学式为HCl,故A正确; B、三氯硅烷化学式为,则三氯硅烷由氢、硅、氯三种元素组成,故B正确; C、三氯硅烷中硅、氯元素的质量比为,故C不正确; D、反应②③实现了硅元素的富集,将粗硅转化为高纯硅,故D正确。故选C。
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考点分析:
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单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。用化学方法可制得高纯度硅,其化学方程式为:①SiO22CSi2CO↑②Si2Cl2SiCl4③SiCl42H2Si4HCl,其中反应属于(  )

A.化合反应 B.分解反应 C.置换反应 D.复分解反应

 

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芯片是中美经贸摩擦的焦点之一。制造芯片的高纯硅可以用下述方法制取(反应条件略):

下列有关说法错误的是

A.反应①、③均为置换反应 B.SiCl4 Si 的化合价为+4

C.Si 在化学变化中易得电子 D.硅原子的核电荷数为 14

 

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硅晶体广泛应用于电子工业的各个领域,工业上常用焦炭在高温下还原二氧化硅固体初步制得,主要反应为SiO2+2C高温Si+2CO2↑。下列说法不正确的是(  )

A. 该反应为置换反应

B. SiO2中硅元素的化合价为+4

C. 反应后固体质量减小

D. 地壳中硅元素含量小于铁元素

 

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科学家提出:“硅是未来的石油”,制备粗硅的反应为:SiO22CSinCO↑。下列说法正确的是(  )

A.该化学方程式中n1

B.反应前后原子总数发生变化

C.硅是地壳中含量最高的元素

D.反应中SiO2C的化学计量数之比为1:2

 

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科学家提出“硅是未来的石油”。工业上制备粗硅的反应为SiO22CSi2CO↑。下列说法正确的是(   

A.硅是地壳中含量最高的元素 B.该反应前后,原子总数不变

C.硅元素的化合价在反应前后不变 D.生成CO的原因是O2不足

 

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