（10分）氯碱工业的原料饱和食盐水中含有一定量的铵根离子，在电解时会生成性质极不稳定的三氯化氮，容易引起爆炸。
（1）三氯化氮易水解，其水解的最初产物除生成氨气外，另一产物为 ▲ 。
（2）为除去饱和食盐水中的铵根离子，可在碱性条件下通入氯气，反应生成氮气。该反应的离子方程式为 ▲ 。该工艺选择氯气的优点是 ▲ 。（答一点即可）
（3）过量氯气用Na2S2O3除去，反应中S2O32-被氧化为SO42-。若过量的氯气为10-3 mol/L，则理论上生成的SO42-为 ▲ mol/L。
（4）生产和实验中广泛采用甲醛法测定样品的含氮量。甲醛和铵根离子的反应如下：
4NH4+ + 6HCHO ＝（CH2)6N4H+（一元酸）+ 3H+ + 6H2O
实验步骤如下：
①甲醛中常含有微量甲酸，应先除去。可取甲醛b mL于锥形瓶，加入1滴酚酞，用浓度为C mol/L的NaOH溶液中和，滴定管的初始读数V1 mL，当溶液呈微红色时，滴定管的读数V2 mL。
②向其中加入饱和食盐水试样a mL，静置1分钟。
③再加1~2滴酚酞，再用上述NaOH溶液滴定至微红色，滴定管的读数V3 mL。
则饱和食盐水中的含氮量为 ▲ mg/L。
（10分）电镀废水一种特殊处理工艺如下：
图中DTCR能与Ni2+、Zn2+、Cu2+、Cr3+等各种重金属离子迅速反应，生成不溶水的螯合盐，再加入少量絮凝剂下，形成絮状沉淀，从而达到捕集去除重金属的目的。
试回答下列问题：
（1）步骤②ClO2可将CN－直接氧化成两种无毒气体，该反应的离子方程式为 ▲ 。
（2）若含氰废水流量为0.8 m3/h，含氰(CN－)浓度为300 mg/L，为确保安全，实际投放ClO2为理论值的1.3倍，则完成氧化每小时共需投入ClO2质量为 ▲ kg。
（3）步骤③中氧化剂与还原剂的物质的量之比为 ▲ 。
（4）PAM为丙烯酰胺（CH2=CHCONH2）的聚合物，该聚合物的结构简式为 ▲ 。
（5）本工艺中将废水分类收集，分而治之的优点是 ▲ 。
（10分）实验室用共沉淀法制备纳米级Fe3O4的流程如下：
该方法的关键为促进晶粒形成，并控制晶体生长。试回答下列问题：
（1）该反应原理的离子方程式可表示为 ▲ 。
（2）反应温度需控制在50℃，其方法是 ▲ ，温度偏低造成产量低的可能是 ▲ 。
（3）在搅拌Ⅱ的过程中还需加入10 mL正丙醇，其作用是 ▲ 。
（4）黑色糊状物转移至烧杯中，用倾析法洗涤，检验洗净的操作是 ▲ 。
（5）由上述分析可知，影响纳米级Fe3O4粒径大小的因素有（写出一条） ▲ 。
（12分）多晶硅（硅单质的一种）被称为“微电子大厦的基石”，制备中副产物以SiCl4为主，它对环境污染很大，能遇水强烈水解，放出大量的热。研究人员利用SiCl4水解生成的盐酸和钡矿粉（主要成份为BaCO3，且含有钙、铁、镁等离子）制备BaCl2·2H2O，工艺流程如下。已知常温下Fe3+、Mg2+完全沉淀的pH分别是：3.4、12.4。
（1）SiCl4水解控制在40℃以下的原因是 ▲ 。
已知：SiCl4(s)+H2(g)=SiHCl3(s)+HCl(g) ΔH1=47 kJ/mol
SiHCl3(s)+H2(g)=Si(s)+3HCl(g) ΔH2=189 kJ/mol
则由SiCl4制备硅的热化学方程式为 ▲ 。
（2）加钡矿粉时生成BaCl2的离子反应方程式是 ▲ 。
（3）加20% NaOH调节pH=12.5，得到滤渣A的主要成分是 ▲ ，控制温度70℃的目的是 ▲ 。
（4）BaCl2滤液经蒸发浓缩、降温结晶、过滤，再经真空干燥后得到·2H2O。实验室中蒸发浓缩用到的含硅酸盐的仪器有 ▲ 种。
（5）为体现该工艺的绿色化学思想，该工艺中能循环利用的物质是 ▲ 。
部分氧化的Fe-Cu合金样品（氧化产物为Fe2O3、CuO）共5.76 g，经如下处理：
下列说法正确的是
A．滤液A中的阳离子为Fe2+、Fe3+、H+ B．样品中Fe元素的质量为2.24 g
C．样品中CuO的质量为4.0 g D．V=448
下列溶液中有关微粒浓度的关系不正确的是
A．向0.2 mol/L KA溶液中加入等体积的0.1 mol/L HCl溶液，得pH=10的混合溶液：
c(K+)＞c(HA)＞c(Cl-)＞c(A-)
B．c1 mol/L pH＝a的醋酸，c2 mol/L pH＝b的醋酸，若a＋1＝b，则c1 ＞10 c2
C．浓度均为0.1 mol/L的Na2CO3、NaHCO3混合溶液：2c(Na+)=3[c(CO32-)+c(HCO3-)]
D．某二元弱酸的酸式盐NaHA溶液：c(H＋)＋c(H2A)＝c(OH－)＋c(A2－)
