观察下列A、B、C、D、E五种粒子（原子或离子）的结构示意图，回答有关问题：
（1）属于离子结构示意图的是 、 （填编号）。
（2）性质最稳定的原子是（填写编号，在本小题中下同） ，最容易失去电子的原子是 ，最容易得到电子的原子是 。
（3）A、B、D三种元素形成的一种化合物在水溶液中的电离方程式 。
（4）在核电荷数1-18的元素内，列举两个与B核外电子层排布相同的离子，写出离子的符号 、 。
氯气（Cl2）和氧气（O2）都是活泼的非金属单质，在一定条件下它们都能跟甲烷（CH4）反应。已知O2和CH4充分反应后的生成物是CO2和H2O，由此推断Cl2和CH4充分反应后的生成物是
A．CCl4和HCl B．CCl4和H2 C．CH2C12和H2 D．C和HCl
含MgCl2、FeCl3、Al2(SO4)3三种溶质的混合溶液中，已知Cl－为1.5mol，Al3＋和Fe3＋共0.5mol，Mg2+为0.5mol，则SO42—的物质的量为
A．1mol B．0.5mol C．0.25mol D．0.15mol
单晶硅是制作电子集成电路的基础材料。科学家预计，到2011年一个电脑芯片上将会集成10亿个晶体管，其功能远比我们想象的要大的多，这对硅的纯度要求很高。用化学方法可制得高纯度硅，其化学方程式为 ： ①SiO2 ＋ 2 C 
Si
＋ 2 CO
②Si ＋ 2Cl2 SiCl4 ③SiCl4 + 2H2 Si + 4HCl，其中反应①和③都属于
A．分解反应 B．化合反应
C．置换反应 D．复分解反应
下列过程应用于工业生产的是
A．钠在氯气中燃烧制氯化钠 B．氢气与氯气光照条件下制氯化氢气体
C．浓盐酸与二氧化锰共热制氯气 D．氯气与石灰乳反应制漂白粉
用NA表示阿伏加德罗常数的值，下列说法正确的是
A．22.4 L 氢气中含有氢分子数目为NA
B．1 mol 臭氧（O3）中含有氧原子的数目为2NA
C．常温常压下，14 g 氮气含有的原子数目为 NA
D．0.5 mol/L Fe2(SO4)3 溶液中，SO42－的数目为1.5NA
