四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为： SiCl...

四氯化硅还原法是当前制备较高纯度硅的一种方法，有关反应的化学方程式为：

SiCl₄＋2H₂4HCl＋Si

下列说法不合理的是

A．反应制得的硅可用于制造半导体材料

B．增大压强有利于加快上述反应的化学反应速率

C．四氯化硅可以由粗硅与氯气通过化合反应制得

D．混入少量空气对上述反应无影响

D 【解析】试题分析：所给的反应是工业上提炼高纯度硅的关键反应，A说法合理；增大压强对于有气体参加的反应能加快反应速率，B说法合理；C说法正确；混入空气后硅和氧气反应使所得产物含有二氧化硅而不纯，D说法错误。考点：考查高纯度硅的制备及其相关问题

考点分析：

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下列图示与对应的叙述相符的是

说明: 满分5 manfen5.com

A．图1表示某吸热反应分别在有、无催化剂的情况下反应过程中的能量变化

B．图2表示0.1000 mol·L^－¹NaOH溶液滴定20.00 mL 0.1000 mol·L^－¹CH₃COOH溶液所得到的滴定曲线

C．图3表示KNO₃的溶解度曲线，图中a点所示的溶液是80 ℃时KNO₃的不饱和溶液

D．图4表示某可逆反应生成物的量随反应时间变化的曲线，由图知t时刻反应物转化率最大

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(NH₄)₂PtCl₆晶体受热分解，生成氮气、氯化氢、氯化铵和金属铂。在此分解反应中，氧化产物与还原产物的物质的量之比是

A．2∶3 B．3∶2

C．4∶3 D．1∶3

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下列各组离子可能大量共存的是

A．pH＝1的溶液中：

B．能与金属铝反应放出氢气的溶液中：

C．含有大量OH^－的无色溶液中：

D．常温下水电离出的的溶液中：

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已知：Ni＋CuSO₄===NiSO₄＋Cu；Cu＋2AgNO₃===Cu(NO₃)₂＋2Ag ，则下列判断正确的是

A．还原性：Cu>Ni>Ag

B．氧化性：Ni²^＋>Cu²^＋>Ag^＋

C．还原性：Ni<Cu<Ag

D．氧化性：Ni²^＋<Cu²^＋<Ag^＋

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下列叙述正确的是

A．纯锌与稀硫酸反应时，加入少量CuSO₄溶液，可使反应速率加快

B．甲醇和氧气以及KOH溶液构成的新型燃料电池中，其负极上发生的反应为：

CH₃OH＋6OH^－＋6e^－===CO₂↑＋5H₂O

C．在铁上镀铜时，金属铜作阴极

D．电解MgCl₂溶液可制得Mg单质

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试题属性