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近年,我国电子工业迅速发展,造成了大量的电路板刻蚀废液的产生和排放。刻蚀液主要有...

近年,我国电子工业迅速发展,造成了大量的电路板刻蚀废液的产生和排放。刻蚀液主要有酸性的(HCl­H2O2)、碱性的(NH3­NH4Cl)以及传统的(HCl­FeCl3)等三种,刻蚀废液中含有大量的Cu2,废液的回收利用可减少铜资源的流失。几种刻蚀废液的常见处理方法如图:

说明: 满分5 manfen5.com

(1)FeCl3型酸性废液回收铜并使刻蚀液再生,发生的主要离子反应有Fe+Cu2===Fe2+Cu,2Fe3+Fe===3Fe2,还有___________________________________________________,

___________________________________________________________(离子方程式表示)。

(2)HCl­H2O2型刻蚀液刻蚀Cu的过程中发生的化学反应用离子方程式可表示为:________________________________________________________________________。

(3)H2O2型酸性刻蚀废液回收Cu2O过程中,所加试剂A的最佳选择是________(填序号)。

①酸性高锰酸钾溶液;②固体NaCl;③甲醛;④葡萄糖

(4)碱性刻蚀液发生的反应是:2Cu+O2+4NH4Cl+4NH3·H2O===2Cu(NH3)4Cl2+6H2O,处理碱性刻蚀废液过程中加入NH4Cl固体并通入NH3(g)的目的是:

________________________________________________________________________。

 

(1)Fe+2H+===Fe2++H2↑   2Fe2++Cl2===2Fe3++2Cl- (2)Cu+2H++H2O2===Cu2++2H2O    (3)④ (4)促进溶液中的Cu(NH3)4Cl2生成并结晶析出 【解析】 试题分析:(1)FeCl3型酸性废液中含Fe3+、Cu2+、H+等,加入铁粉将它们还原;再通入Cl2将Fe2+氧化。 (2)氧化剂是H2O2,还原剂是Cu,氧化产物是Cu2+,还原产物是H2O,则离子方程式可知。 (3)应该加入还原剂,甲醛有污染,所以使用葡萄糖更好。 (4)处理过程中Cu(NH3)4Cl2结晶析出,加入NH4Cl固体并通入NH3(g)可以促进Cu(NH3)4Cl2生成并有利于其结晶。 考点:考查物质的分离和提纯、方程式的书写、氧化还原反应的有关应用和实验方案的设计
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考点分析:
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将铁粉、铜粉、FeCl3溶液、FeCl2溶液和CuCl2溶液混合于某容器中充分反应(假定容器不参与反应),试判断下列情况下溶液中存在的金属离子和金属单质。

(1)若铁粉有剩余,则容器中不可能有_______________________________________;

(2)若氯化铜有剩余,则容器中还可能有__________________________________;

(3)若氯化铁和氯化铜都有剩余,则容器中不可能有________,可能有________;

(4)若氯化铁有剩余,则容器中不可能有________。

 

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被严重腐蚀了的铜和铁共同放入盐酸中充分反应后,剩余残渣中只有铜,则溶液中含有的金属阳离子为(  )

A.可能只含Fe2

B.可能只含Cu2

C.一定含有Fe2和Cu2

D.可能只含Cu2和Fe3

 

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用质量均为100 g的铜棒作电极,电解硝酸银溶液,电解一段时间后,两个电极的质量差为28 g,则阴极的质量为(  )

A.128 g                                B.114 g

C.119 g                                D.121.6 g

 

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某溶液中有说明: 满分5 manfen5.com、Mg2、Fe2和Al3四种离子,若向其中加入过量的氢氧化钠溶液,微热并搅拌,再加入过量盐酸,溶液中大量减少的阳离子是(双选)(  )

A.说明: 满分5 manfen5.com                                 B.Mg2

C.Fe2                                 D.Al3

 

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铝制品比铁制品在空气中不易被锈蚀,原因是(  )

A.铝的金属活动性比铁弱

B.铝的密度比铁的密度小

C.铝在空气中易与氧气形成一层致密的氧化膜

D.铝不能跟氧气发生化学反应

 

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