氯碱工业中,通过电解饱和食盐水获得重要的化工原料:氯气、氢气和氢氧化钠。其中氯气用途十分广泛,除用于净水、环境消毒外,还用于生产盐酸、硅、聚氯乙烯、氯苯等。
(1)写出工业上制取盐酸的化学反应方程式:
(2)工业上可用氯气和石灰乳为原料制造漂白粉,写出漂白粉在空气中的漂白原理(用化学方程式表示) 。
(3)工业上生产半导体材料硅的流程如下:
①写出在制备粗硅时反应的化学方程式_____________________________,此反应中焦炭的作用是____________(填“氧化剂”或“还原剂”),若有 0.6mol硅生成,反应中转移电子的物质的量是 mol。
②粗硅与氯气反应后得到沸点较低的液态四氯化硅中常混有一些高沸点,难挥发性杂质,必须进行分离提纯。其提纯方法为____________。(填序号)
A.蒸馏 B.过滤 C.萃取 D.结晶
③由四氯化硅通入氢气得到高纯硅和氯化氢气体,写出该反应的化学方程式:
________________________________________________________________________。
A、B、C、D均为中学化学常见的纯净物,A是单质。它们之间有如下的反应关系:
(1)、若A是硫磺,B是气态氢化物,C是造成酸雨的污染物之一,④反应是通一种黄绿色气体,生成D和另一种产物E,D是一种含氧酸,写出反应④的化学反应方程式:_ ;检验④反应产物E中阴离子所用试剂为: 。
(2)、若D物质具有两性,②③反应均要用强碱溶液,④反应是通入过量的一种引起温室效应的主要气体,写④反应离子方程式 ;利用A的还原性和A转化为氧化物时能放出大量热的性质,工业上常用A来还原一些金属氧化物,写出这类反应在工业上的一个重要应用(用方程式表示) 。
(3)、若A是应用最广泛的金属,④反应用到A,②⑤反应均用到同一种非金属单质。C的溶液常用于制作印刷电路板,写出该反应的离子方程式 。
下列反应中,不能用离子方程式Ba2++SO42—=BaSO4↓来表示的是( )
A.稀硫酸溶液与硝酸钡溶液反应
B.硫酸钾溶液与氯化钡溶液反应
C.稀硫酸溶液与氢氧化钡溶液反应
D.硫酸钠溶液与硝酸钡溶液反应
将一定量的铁片和浓硫酸混合加热,充分应后得到溶液X,X中除Fe3+外还可能含有Fe2+。若要确认其中的Fe2+,应选用( )
A.KSCN溶液和氯水 B.铁粉和KSCN溶液 C.浓氨水 D.酸性KMnO4溶液
某固体物质X与稀盐酸反应生成溶液Y,Y与过量氢氧化钠溶液反应得白色沉淀Z,经过滤后,将沉淀物Z加热灼烧又得到X。则X可能是( )
A.Fe2O3 B.Al2O3 C.FeO D.MgO
对实验Ⅰ~Ⅳ的实验现象预测正确的是( )
(提示:Ca(OH)2+2NH4Cl=2NH3↑+CaCl2+2H2O)
A.实验Ⅰ:液体分层,下层呈无色
B.实验Ⅱ:烧杯中先出现白色沉淀后溶解
C.实验Ⅲ:试管中溶液出现红色沉淀物
D.实验Ⅳ:放置一段时间后,饱和CuSO4溶液中出现蓝色晶体