氮化硅膜与二氧化硅膜相比较具有表面化学性能稳定等优点,故氮化硅膜可用于半导体工业.为生成氮化硅膜,可以用NH
3和SiH
4(硅烷)在一定条件下反应并在600℃的加热基板上生成氮化硅膜:
3SiH
4+4NH
3 Si
3N
4+12H
2(1)以硅化镁为原料制备硅烷的反应和工业流程如下:
反应原理:4NH
4Cl+Mg
2Si
4NH
3↑+SiH
4↑+2MgCl
2(△H<0)
①NH
4Cl的化学键类型有
,SiH
4电子式为
.
②上述生产硅烷的过程中液氨的作用是
.
③氨气也是重要的工业原料,写出氨气发生催化氧化反应生成NO的化学方程式
,实验室可利用如图所示装置完成该反应.
在实验过程中,除观察到锥形瓶中产生红棕色气体外,还可观察到有白烟生成,白烟的主要成分是
.
(2)三硅酸镁(Mg
2Si
3O
8∙nH
2O)难溶于水,在医药上可做抗酸剂.它除了可以中和胃液中多余酸之外,生成的H
2SiO
3还可覆盖在有溃疡的胃表面,保护其不再受刺激.三硅酸镁与盐酸反应的化学方程式为
.将0.184g三硅酸镁加到50mL 0.1mol/L盐酸中,充分反应后,滤去沉淀,以甲基橙为指示剂,用0.1mol/L NaOH溶液滴定剩余的盐酸,消耗NaOH溶液30mL,则Mg
2Si
3O
8∙nH
2O的n值为
.(注:Mg
2Si
3O
8的摩尔质量为260g/mol)
查看答案