Question

下列离子方程式书写正确的是（ ）
A．氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液：Al（OH）₃+3OH^-=AlO₂^-+3H₂O
B．AlCl₃溶液中加入足量的氨水：Al³⁺+3OH^-═Al（OH）₃↓
C．用FeCl₃溶液腐蚀铜电路板：2Fe³⁺+Cu=2Fe²⁺+Cu²⁺
D．铜片加入浓硝酸中：Cu+4H⁺+2NO₃^-=Cu²⁺+2H₂O+2NO₂↑

Answer

A、氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液反应生成偏铝酸钠和水及电荷守恒来分析；
B、AlCl3溶液中加入足量的氨水生成Al（OH）3和氯化铵；
C、用FeCl3溶液腐蚀铜电路板发生氧化还原反应为Cu+2FeCl3═2FeCl2+CuCl2；
D、铜片加入浓硝酸中发生的氧化还原反应为Cu+4HNO3=Cu（NO3）2+2H2O+2NO2↑．
【解析】
A、氢氧化铝溶于氢氧化钠溶液反应生成偏铝酸钠和水，其离子反应为Al（OH）3+OH-=AlO2-+2H2O，故A错误；
B、AlCl3溶液中加入足量的氨水生成Al（OH）3和氯化铵，其离子反应为Al3++3NH3．H2O═Al（OH）3↓+3NH4+，故B错误；
C、用FeCl3溶液腐蚀铜电路板发生氧化还原反应为Cu+2FeCl3═2FeCl2+CuCl2，氯离子实际不参加反应，则离子反应为2Fe3++Cu=2Fe2++Cu2+，故C正确；
D、铜片加入浓硝酸中发生的氧化还原反应为Cu+4HNO3=Cu（NO3）2+2H2O+2NO2↑，有一半的硝酸根离子实际不参加反应，则离子反应为Cu+4H++2NO3-=Cu2++2H2O+2NO2↑，故D正确；
故选CD．