Question

下列叙述及对应的离子方程式正确的是（ ）
A．用Cu除去CuCl₂溶液中少量的FeCl₃杂质：Cu+2Fe³⁺═Cu²⁺+2Fe²⁺
B．工业上用NO₂与水反应制取NO：3NO₂+H₂O═NO₃^-+NO+2H⁺
C．用氢氧化钠溶液除去铝表面的氧化膜：Al₂O₃+2OH^-═2AlO₂^-+H₂O
D．向NaAlO₂溶液中通入过量CO₂制Al（OH）₃：2AlO₂^-+CO₂+3H₂O═2Al（OH）₃↓+CO₃^2-

Answer

A、除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质，一般选用氧化铜，不用铜；
B、工业制取一氧化氮用的是氨气的催化氧化；
C、氢氧化钠能够和氧化铝反应生成偏铝酸钠和水；
D、二氧化碳过量，生成了碳酸氢钠．
【解析】
A、一般除去CuCl2溶液中少量的FeCl3杂质，采用加入CuO，Cu（OH）2，CuCO3等，调节PH除去Fe3+，因为Fe3+开始沉淀时的PH比Cu2+的小，故A错误；
B、工业制取一氧化氮是利用氨气催化氧化制备一氧化氮（硝酸工业的第一步反应）：4NH3+5O2 4NO+6H2O，故B错误；
C、氧化铝能够和氢氧化钠溶液反应，方程式为Al2O3+2OH-═2AlO2-+H2O，故C正确；
D、二氧化碳过量，生成了碳酸氢钠，正确离子方程式为：AlO2-+CO2+2H2O═Al（OH）3↓+HCO3-，故D错误；
故选C．