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多晶硅生产工艺流程如下: (1)粗硅粉碎的目的是 。分离SiHCl3 (l)和S...

多晶硅生产工艺流程如下:

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(1)粗硅粉碎的目的是      。分离SiHCl3 (l)和SiCl4(l)的方法为      

(2)900℃以上, H2与SiHCl3发生如下反应:SiHCl3 (g)+ H2 (g)满分5 manfen5.comSi (s) + 3HCl (g)    ΔH >0,其平衡常数表达式为K =      。为提高还原时SiHCl3的转化率,可采取的措施有     

(3)该流程中可以循环使用的物质是      

(4)SiCl4与上述流程中的单质发生化合反应,可以制得SiHCl3,其化学方程式为      

 

(1)增大接触面积,加快反应速率,充分反应(2分)     蒸馏(2分) (2)K=  (3分)     升高温度或增大氢气与 SiHC13 的物质的量之比或增大氢气浓度(2分) (3)HCl、H2(2分) (4)3SiCl4+Si+2H2=4SiHCl3(2分) 【解析】 试题分析: (1)粗硅粉碎长大了表面积,加快反应速率;SiHCl3和SiCl4均为液态而且互相溶解,根们沸点不同,用蒸馏法分离。 (2)Si为固态,表达式中无Si,使平衡向正反应方向移动,能提高还原时SiHCl3的转化率。 (3))HCl、H2在流程中分别作反应物和生成物,所以可循环使用。 (4)结合流程,对比SiHCl3和SiCl4,可得出反应物还有和H2和Cl2,然后写出化学方程式。 考点:本题考查化学反应速率、化学平衡移动、化学平衡常数、流程图的分析和化学方程式的书写。
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考点分析:
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下列图示与对应的叙述不相符的是

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A.图1表示相同温度下,向pH=10的氢氧化钠溶液和氨水中分别加水稀释时pH的变化曲线,其中a表示氨水稀释时pH的变化曲线

B.图2表示向含有少量氢氧化钠的偏铝酸钠溶液中滴加盐酸所得沉淀物质的量与盐酸体积的关系

C.图3表示压强对可逆反应CO(g)+H2O(g) 满分5 manfen5.com CO2(g)+H2(g)的影响,乙的压强比甲的压强大

D.图4表示10 mL 0.01 mol·L-1 KMnO4 酸性溶液与过量的0.1 mol·L1 H2C2O4 溶液混合时,n(Mn2+) 随时间的变化(Mn2+对该反应有催化作用)

 

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下列说法中正确的是

A.铅蓄电池放电时的负极和充电时的阴极均发生氧化反应

B.升高NH4Cl溶液的温度,其水的离子积常数和pH均增大

C.反应2Mg(s)+CO2(g)=C(s)+2MgO(s)能自发进行,则该反应的△H<0

D.常温下Ksp(Ag2CrO4)=1.1×1012,Ksp(AgCl)=1.8×1010,则Ag2CrO4的溶解度小于AgCl

 

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设NA表示阿伏加德罗常数的值,下列说法正确的是

A.常温常压下,5.6L CH4含C—H键数目为NA

B.常温常压下,100g 17%H2O2水溶液含氧原子总数为NA

C.标准状况下,5.6L O2与适量Na加热反应,转移电子数一定为NA

D.常温常压下,14g乙烯与丙烯的混合气体,含碳原子总数为NA

 

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下列表示对应化学反应的离子方程式正确的是

A.NO2通入水中:3NO2+H2O=2H++2NO3-+NO

B.用两个铜电极电解CuSO4溶液:2Cu2++2H2O 满分5 manfen5.com2Cu↓+O2↑+4H+

C.SO2通入FeCl3溶液中:SO2+Fe3++2H2O=SO42-+Fe2++4H+

D.过量的CO2通入NaAlO2溶液中:2AlO2-+CO2+3H2O =Al(OH)3↓+CO32-

 

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下列有关实验装置进行的相应实验,能达到实验目的的是

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A.图1定量测定H2O2的分解速率

B.图2装置制备Fe(OH)2并能较长时间观察其颜色

C.图3装置测量Cu与浓硝酸反应产生气体的体积

D.图4证明CH3CH2OH发生消去反应生成了乙烯

 

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