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半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅 SiO2(s)+2C(s)=...

半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅

SiO2(s)+2C(s)=Si(s)+2CO(g)    △H1=+682.44kJ·mol-1

(石英砂)   (粗硅)

Si(s)+2C12(g)=SiCl4(l)         △H2=一657.01kJ·mol-1

(粗硅)

SiCl4(l)+2Mg(s)=2MgCl2(s)+Si(s) △H3=一625.63kJ·mol-1

(纯硅)

若生产1.00kg纯硅放出的热量为

A.21.44kJ     B.600.20kJ     C.21435.71kJ   D.1965.10kJ

 

C 【解析】 试题分析:根据关系式1molSiO2 ~ Si(粗硅)~ SiCl4(l)~ 1molSi(纯硅),△H=△H1+△H2+△H3=660.20 kJ·mol-1 ,所以若生产1.00kg纯硅放出660.20 kJ·mol-1×(1000÷28)mol=21435.71kJ,C正确 考点:考察元素及其化合物性质、化学反应的计算。
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考点分析:
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向含有Fe2+、I-、Br-的溶液中通入适量氯气,溶液中各种离子的物质的量变化如下图所示。有关说法不正确的是

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A.线段BC代表Fe3+物质的量的变化情况

B.原混合溶液中c(FeBr2)=6mol/L

C.当通入Cl22mol时,溶液中已发生的离子反应可表示为:

2Fe2++2I-+2C12=2Fe3++I2+4Cl-

D.原溶液中n(Fe2+):n(I-):n(Br-)=2:1:3

 

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对溶液中的反应,如图图像中m表示生成沉淀的物质的量,n表示参加反应的某一种反应物的物质的量,则下列叙述中错误的是

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甲               乙               丙

A.符合甲图像的两种反应物可以是AlC13和NaOH

B.符合乙图像的两种反应物可以是Ca(OH)2和CO2

C.符合丙图像的反应可以是在Ca(OH)2和KOH的混合溶液中通入CO2

D.符合丙图像的反应可以是在NH4Al(SO4)2溶液中加入NaOH

 

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等物质的量的N2、O2、CO2混合气体通过Na2O2后,体积变为原体积的8/9(同温同压),这时混合气体中N2、O2、CO2的物质的量之比为

A.3:4:1      B.3:3:2        C.6:7:3       D.6:9:0

 

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下图中a、b、c表示相应仪器中加入的试剂,可用下图装置制取、净化、收集的气体是

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编号      气体       a                  b                  c

A            NH3         浓氨水       生石灰       碱石灰

B            CO2         盐酸           碳酸钙       饱和NaHCO3

C            NO          稀硝酸       铜屑           H2O

D            NO2         浓硝酸       铜屑           NaOH溶液

 

 

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杨老师在课堂上出示两瓶失去标签的Na2CO3和NaHCO3无色饱和溶液,希望班里同学提出简便的鉴别方法,该班同学踊跃提出看法,其中不合理的是

①用干燥的pH试纸检验,pH大的是Na2CO3

②取同量的溶液于两支试管中,各滴入酚酞试液,红色较深的是Na2CO3

③取同量的溶液于两支试管中,加热,有气泡产生的是NaHCO3

④取同量的溶液于两支试管中,逐滴加入稀盐酸,开始就有气体放出的是NaHCO3

⑤取同量的溶液于两支试管中,滴加BaCl2溶液,生成白色沉淀的是Na2CO3

⑥取同量的溶液于两支试管中,滴加Ba(OH)2溶液,生成白色沉淀的是Na2CO3

A.①②    B.③⑥   C.④⑤    D.②⑤

 

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