Question

三氟化氮(NF₃)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体，它在潮湿的环境中能发生反应：3NF₃＋5H₂O=2NO＋HNO₃＋9HF。下列有关该反应的说法正确的是(   　)

A．NF₃分子中所有原子共平面           B．NF₃在反应中既做氧化剂又做还原剂

C．生成0.2mol HNO₃时转移0.2mol电子  D．氧化产物与还原产物的物质的量之比为2∶1

Answer

B

【解析】

试题分析：A、NF3的结构类似于NH3，为三角锥，不共面，错误；B、NF3中N元素的化合价为+3，部分升高为+5价，部分降低为+2价，既做氧化剂又做还原剂，正确；C、生成0.2mol HNO3时转移电子：0.2mol×2=0.4mol，错误；D、氧化产物为HNO3，还原产物为NO，所以氧化产物与还原产物的物质的量之比为1:2，错误。

考点：本题考查氧化还原反应的分析、物质的空间结构。