Question

W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示。已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z的电负性在同周期主族元素中最大。

（1）X位于元素周期表中的位置              ；¹⁸W与X形成原子个数1：1的物质，该物质与H₂O反应的化学方程式                。（在化学式中标出质量数18）

（2）X的单质和Y的单质相比，熔点较高的是_____(写化学式)；Z的气态氢化物和溴化氢相比，较稳定的是_______(写化学式)。

（3）Y与Z形成的化合物和足量水反应，生成一种弱酸和一种强酸，该反应的化学方程式是________。

Answer

（1）第三周期ⅠA族   2Na218O2 + 2H2O=2Na18OH + 2NaOH+ 18O2（2分）

（2）Si   HCl

（3）SiCl4＋3H2O=H2SiO3↓＋4HCl（2分，其余为1分）

【解析】

试题分析：W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，已知W的一种核素的质量数为18，中子数为10，则W元素原子的质子数为8，W为氧元素；X和Ne原子的核外电子数相差1，X为Na或F，X原子半径大于氧原子，X为Na元素；Y的单质是一种常见的半导体材料，原子序数大于Na元素，Y为Si元素；Z的非金属性在同周期元素中最强，Z为Cl元素；（1）X为Na，在元素周期表中的位置是第三周期ⅠA族；18W与X形成原子个数1：1的物质为Na218O2，与H2O反应的化学方程式为2Na218O2 + 2H2O=2Na18OH + 2NaOH+ 18O2（2）根据晶体结构和钠和硅的物理性质分析，钠的熔点较低，硅熔点较高根据同主族元素性质递变规律知，氯化氢比溴化氢稳定；（3）SiCl4和足量的水反应，生成一种弱酸和一种强酸，反应方程式为：SiCl4+4H2O=H4SiO4↓+4HCl。

考点：考查元素推断、位构性之间的关系及化学用语的书写。