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三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应: 3NF...

三氟化氮是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:

3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下了有关该反应的说法正确的是:

A.NF3是氧化剂,H2O是还原剂

B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2:1

C.若生成0.2mol HNO3,则转移0.2mol电子

D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生红棕色气体

 

D 【解析】 试题分析:NF3中氮元素化合价为+3价,2/3降低为+2价的NO,1/3升高为+5价的HNO3,为还原剂;A、NF3是氧化剂和还原剂,错误;B、还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2,错误;C、若生成0.2mol HNO3,则转移0.4mol电子,错误;D、正确。 考点:考查氧化还原反应概念和原理有关问题。
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考点分析:
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14g铜金合金与足量的某浓度HNO3反应,将产生的气体用1.12L(标准状况)O2混合,通入水中,气体恰好被完全吸收,则合金中铜的质量为

A.9.6g            B.6.4g       C.3.2g       D.1.6g

 

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下列各组关系正确的是:

A.原子半径 N<P<S        B.稳定性 NH3<H2O<HF

C.碱性 NaOH>KOH       D.酸性 H3AsO4>H2SeO4>HBrO4

 

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在指定环境中,下列各组离子一定可以大量共存的是

①pH试纸变成深蓝色的溶液中:SO32-、S2O32-、Na+

②含有大量S2-的溶液中:Na+、ClO-、Cl-、CO32-

③AlCl3溶液中:K+、SiO32-、NH4+、NO3-

④中性溶液中:Cu2+、Fe3+、SO42-、Cl-

⑤加入铝粉放出氢气的溶液:Na+、Cl-、NH4+、NO3-

⑥在含有大量HCO3-的溶液中:K+、Na+、AlO2-、Br-

A.①③④        B.只有①        C.②④⑤        D.①④⑥

 

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下列离子方程式书写正确的是:

A.碳酸氢钙溶液中加入过量的NaOH溶液: Ca2+HCO3+OH=CaCO3↓+H2O

B.NaHSO4溶液与Ba(OH)2溶液混合后显酸性:Ba2+OH+H+SO42=BaSO4↓+H2O

C.FeI2溶液中通入少量Cl2:2 Fe2 + Cl2=2 Fe3 + 2Cl

D.向NH4Al(SO42溶液中滴入Ba(OH)2溶液恰使SO42-沉淀完全NH4++Al3++2Ba2++2SO42-+4OH- =Al(OH)3↓+NH3·H2O+2BaSO4

 

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下列现象或反应的原理解释正确的是

            现象或反应                                                                          原理解释

A.     铝箔在酒精灯火焰上加热熔化但不滴落                      铝箔对熔化的铝有较强的吸附作用

B.     合成氨反应需在高温条件下进行                                   该反应为吸热反应

C.     镀层破损后,镀锡铁比镀锌铁易腐蚀                           锡比锌活泼

D.     2CO=C+O2在任何条件下均不能自发进行                该反应△H>0,△S<0

 

 

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