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酸与碱完全中和时( )。 A.酸与碱的物质的量一定相等 B.酸所能提供的H+与碱...

酸与碱完全中和时(  )

A.酸与碱的物质的量一定相等

B.酸所能提供的H与碱所能提供的OH的物质的量相等

C.酸与碱的质量相等

D.溶液呈中性

 

B 【解析】酸碱中和反应的实质是H++OH-=H2O。强酸与弱碱或强碱与弱酸完全中和后溶液不一定是中性。  
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考点分析:
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获取知识和信息是现代人不可缺少的素质,信息产业的飞速发展离不开材料科学的推动。信息产业的核心材料是高纯度的硅,单晶硅可用来制作大规模集成电路、整流器等,硅纯度越高,大规模集成电路的性能就越好。高纯度的单晶硅生产方法有:

方法一:三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下:

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方法二:用金属硅化物(Mg2Si)与盐酸作用制得硅烷,再热分解硅烷可得高纯硅。

根据上述信息回答以下问题:

(1)从方法一生产单晶硅的过程看,由焦炭还原得到的硅为何还要进一步处理?_________________________________________________________

(2)写出方法二中生产高纯硅的两个化学方程式:

____________________________________________________________

__________________________________________________________

(3)写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学方程式:____________________________________

(4)在方法一中,整个制备过程必须严格控制无水无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式:________________H2还原SiHCl3过程中若混入O2,可能引起的后果是_____________________________________________________

(5)比较方法一和方法二,分析一下各自的优缺点____________________________________

 

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晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:

高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;

粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3Si3HCl满分5 manfen5.comSiHCl3H2

SiHCl3与过量H21 0001 100 反应制得纯硅已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。

请回答下列问题:

(1)步制备粗硅的化学方程式为_____________________________________________

(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 )中含有少量SiCl4(沸点57.6 )HCl(沸点-84.7 ),提纯SiHCl3采用的方法为___________________________

(3)SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)

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装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是________________________________________________________________

反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________,装置D中发生反应的化学方程式为_____________________________________________________________

为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及___________________________________________________________

 

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矿泉水一般是由岩石风化后被地下水溶解其中的一部分生成的。此处所指的风化作用是指矿物与水和CO2作用的过程。例如,钾长石(KAlSi3O8)风化生成高岭土[Al2Si2O5(OH)4],此反应的离子方程式为2KAlSi3O82H2CO35H2O=2K2HCO4H2SiO3Al2Si2O5(OH)4

(1)将上述复杂硅酸盐改写成氧化物形式:

KAlSi3O8_____________________________________________________

Al2Si2O5(OH)4________________________________________________

(2)这个反应能够发生的原因是_________________________________________

 

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开发新材料是现代科技发展的方向之一,下列有关材料的说法正确的是(  )

A.氮化硅陶瓷是新型无机非金属材料

BC60属于原子晶体,用于制造纳米材料

C.纤维素乙酸酯属于天然高分子材料

D.单晶硅常用于制造光导纤维

 

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化学雕刻法是指用化学药品在一些固体材料表面腐蚀出图案的方法。对以下材料进行化学雕刻,所用药品错误的是(  )

A.用氢氟酸雕刻玻璃

B.用浓硝酸雕刻水晶

C.用三氯化铁溶液雕刻铜板

D.用盐酸雕刻汉白玉

 

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