已知：
为合成某种液晶材料中间体M，有人提出如下不同的合成途径： 
(1)常温下，下列物质能与A发生反应的有 (填序号)
a．苯 b．Br2/CCl4 c．乙酸乙酯 d．KMnO4/H+溶液
(2)M中官能团的名称是 ，由C→B反应类型 。
(3)由A催化加氢生成M的过程中，可能有中间生成物
和 (写结构简式)生成。
(4)检验B中是否含有C可选用试剂是 (任写一种名称)。
(5)物质B也可由C10H13Cl与NaOH水溶液共热生成，C10H13Cl的结构简式
(6)C的一种同分异构体E具有如下特点：
a．分子中含-OCH2CH3 b．苯环上只有两种化学环境不同的氢原子
写出E在一定条件下发生加聚反应的化学方程式 。
硅在地壳中的含量较高。硅及其化合物的开发由来已久，在现代生活中有广泛应用。回答下列问题：
(1)1810年瑞典化学家贝采利乌斯在加热石英砂、木炭和铁时，得到一种“金属”。这种“金属”可能是 。
(2)陶瓷、水泥和玻璃是常用的硅酸盐材料。其中，生产普通玻璃的主要原料有 。
(3)高纯硅是现代信息、半导体和光伏发电等产业都需要的基础材料。工业上提纯硅有多种路线，其中一种工艺流程示意图及主要反应如下：
①用石英砂和焦炭在电弧炉中高温加热也可以生产碳化硅，该反应的化学方程式为 ；碳化硅又称 ，其晶体结构与 相似。
②在流化床反应的产物中，SiHCl3大约占85%，还有SiCl4、SiH2Cl2、SiH3Cl等，有关物质的沸点数据如下表，提纯SiHCl3的主要工艺操作依次是沉降、冷凝和 。
物质 | Si | SiCl4 | SiHCl3 | SiH2Cl2 | SiH3Cl | HCl | SiH4 |
沸点/℃ | 2355 | 57.6 | 31.8 | 8.2 | -30.4 | -84.9 | -111.9 |
③SiHCl3极易水解，其完全水解的产物为 。
(4)氯碱工业可为上述工艺生产提供部分原料，这些原料是 。
请回答下列问题：
(1)N、Al、Si、Zn四种元素中，有一种元素的电离能数据如下：
电离能 I1 I2 I3 I4 … |
In/kJ．mol-1 578 1817 2745 11578 … |
则该元素是 (填写元素符号)。
(2)基态锗(Ge)原子的电子排布式是 ，Ge的最高价氯化物分子式是 ，该元素可能的性质或应用有 ；
A．是一种活泼的金属元素 B．其电负性大于硫
C．其单质可作为半导体材料 D．其最高价氯化物的沸点低于其溴化物的沸点
(3)关于化合物
，下列叙述正确的有
A．分子间可形成氢键
B．分子中既有极性键又有非极性键
C．分子中有7个σ键和1个π键
D．该分子在水中的溶解度大于2-丁烯
(4)NaF的熔点 
的熔点(填＞、=或＜)，其原因是 。
可降解聚合物P的合成路线如下：
已知：
(1)A的含氧官能团名称是 。
(2)羧酸a的电离方程是 。
(3)B→C的化学方程式是 。
(4)化合物D苯环上的一氯代物有2种，D的结构简式是 。
(5)E→F中反应①和②的反应类型分别是 。
(6)F的结构简式是 。
(7)聚合物P的结构简式是 。
废旧硬质合金刀具中含碳化钨（WC）、金属钴（Co）及少量杂质铁，利用电解法可回收WC和Co，工艺流程简图如下：
（1）电解时废旧刀具做阳极，不锈钢做阴极，HCl溶液为电解液，阴极主要的电极反应为 ；
（2）净化步骤所得滤饼的主要成分是Fe(OH)3，回收的洗涤液代替水配制电解液，目的是回收利用其中的 ；
（3）溶液I的主要成分是NH4Cl，洗涤CoC2O4不充分对最终产品纯度并无明显影响，但焙烧时会造成环境污染，原因是 ；
（4）将Co2O3还原成Co粉的化学方程式为 。
卤族元素包括F、Cl、Br等。
（1）下列曲线表示卤族元素某种性质随核电荷数的变化趋势，正确的是 。
（2）利用“卤化硼法”可合成含B和N两种元素的功能陶瓷，下图为其晶胞结构示意图，则每个晶胞中含有B原子的个数为 ，该功能陶瓷的化学式为 。
（3）BCl3和NCl3中心原子的杂化方式分别为 和 。第一电离能介于B、N之间的第二周期元素有 种。
（4）若BCl3与XYn通过B原子与X原子间的配位键结合形成配合物，则该配合物中提供孤对电子的原子是 。
