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三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应...

三氟化氮(NF3)是微电子工业中优良的等离子刻蚀气体,它在潮湿的环境中能发生反应:3NF3+5H2O=2NO+HNO3+9HF。下列有关说法正确的是

A.NF3既是氧化剂,又是还原剂

B.还原剂与氧化剂的物质的量之比为2∶1

C.若生成0.2 mol HNO3,则转移0.2 mol电子

D.NF3在潮湿的空气中泄漏会产生无色气体

 

A 【解析】 试题分析:A.只有N元素的化合价发生变化,NF3既是氧化剂又是还原剂,故A正确;B.NF3生成NO,被还原,NF3生成HNO3,被氧化,还原剂与氧化剂的物质的量之比为1:2,故B错误;C.生成0.2molHNO3,转移的电子的物质的量为0.2mol×(5-3)=0.4mol,故C错误;D.生成的NO易与空气中氧气反应生成红棕色气体二氧化氮,故D错误,故选A。 考点:考查氧化还原反应的有关判断  
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考点分析:
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下列化学应用中不涉及氧化还原反应的是       

A.工业上由硅的氧化物制备硅单质    

B.生活中使用明矾净水,除去水中的悬浮的微小颗粒

C.漂白粉用作疫区的环境消毒       

D.过氧化钠用作呼吸面具的供氧剂

 

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分类是化学学习和研究的常用手段,下列分类依据和结论都正确的是

A.H2O、HCOOH、Cu2(OH)2CO3均含有氧元素,都是氧化物

B.HCOOH、H2CO3、H2SO4分子中均含有两个氢原子,都是二元酸

C.HF、CH3CH2OH、NaOH都易溶于水,都是电解质

D.HClO、H2SO4(浓)、HNO3均具有氧化性,都是氧化性酸

 

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下列实验操作正确的是

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(12分)二氧化铈CeO2是一种重要的稀土氧化物。平板电视显示屏生产过程中产生大量的废玻璃粉末(含SiO2、Fe2O3、CeO2以及其他少量可溶于稀酸的物质)。某课题组以此粉末为原料回收铈,设计实验流程如下:

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(1)洗涤滤渣A的目的是为了去除    (填离子符号),检验滤渣A是否洗涤干净的方法是      

(2)第②步反应的离子方程式是                       ,滤渣B的主要成分是      

(3)萃取是分离稀土元素的常用方法,已知化合物TBP作为萃取剂能将铈离子从水溶液中萃取出来,TBP     (填“能”或“不能”)与水互溶。实验室进行萃取操作是用到的主要玻璃仪器有         、烧杯、量筒等。

(4)取上述流程中得到的Ce(OH)4[M=208g/mol]产品0.500g,加硫酸溶解后,用0.1000mol•L-1FeSO4标准溶液滴定(铈被还原为Ce3+),消耗20.00mL标准溶液,该产品中Ce(OH)4的质量分数为         。(保留两位小数)

 

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(14分)某兴趣小组探究SO2气体还原Fe3+I2他们使用的药品和装置如下图所示

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(1装置C的作用是                                    

(2) 若要从FeSO4溶液获得FeSO4•7H2O晶体,必须进行的实验操作步骤:              、过滤、洗涤、自然干燥。

(3)根据以上现象,该小组同学认为SO2 与 FeCl3溶液发生氧化还原反应。

①写出SO2与FeCl3溶液反应的离子方程式                            

②请写出检验A烧杯中有Fe2+生成的操作方法                          

③该小组同学向C烧杯反应后的溶液中加入硝酸酸化的BaCl2溶液,若出现白色沉淀,即可证明反应生成了SO42-。该做法        (填“合理”或“不合理”),理由是                      

(4)能表明I的还原性弱于SO2的现象是                                 

 

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