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下列各种应用中,利用了硅元素的还原性的是 A.用硅制造集成电路、晶体管等半导体器...

下列各种应用中,利用了硅元素的还原性的是

A.用硅制造集成电路、晶体管等半导体器件

B.在野外,用硅、石灰、烧碱的混合物制取氢气:Si + Ca (OH)2 + 2NaOH = Na2SiO3 + CaO +2H2

C.用HF酸刻蚀玻璃:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O

D.单质硅的制备: SiO2 + 2C满分5 manfen5.comSi + 2CO↑

 

B 【解析】 试题分析:A.用硅制造集成电路、晶体管等半导体器件,利用的是硅的导电性,A错误;B.在野外,用硅、石灰、烧碱的混合物制取氢气:Si + Ca (OH)2 + 2NaOH = Na2SiO3 + CaO +2H2↑,在反应中硅元素化合价升高,利用的是硅的还原性,B正确;C、C.用HF酸刻蚀玻璃:SiO2+4HF=SiF4↑+2H2O,在反应中元素的化合价均不变,不是氧化还原反应,C错误;D.单质硅的制备: SiO2 + 2CSi + 2CO↑,在反应中硅元素的化合价降低,利用的是二氧化硅的氧化性,D错误,答案选B。 考点:考查二氧化硅的性质  
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下列化学反应的产物与反应物的量无关的是

A.AlCl3与NaOH       B.C与O2     C.CO2NaOH     D.Fe与Cl2

 

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在无色强酸性溶液中,下列各组离子一定能大量共存的是

A.Na+K+、Cl、SO42            

B.Cu2+K+、SO42、NO3

C.K+ NH4+、SO42、CO32        

D.Ba2+、Na+、Cl、SO42-

 

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配制一定物质的量浓度的NaOH溶液时,造成所配溶液浓度偏低的原因是

A.未洗涤烧杯和玻璃棒

B.转移溶液前溶液未冷却至室温

C.容量瓶未干燥

D.定容时俯视液面

 

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下列对有关实验事实的解释正确的是

A.向某溶液中滴加氯水后,再加入KSCN溶液,溶液呈红色,说明原溶液中含有Fe2+

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D.常温下,浓硫酸可以用铁质容器储运,说明与冷的浓硫酸不反应

 

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下列离子方程式书写正确的是

A.硫酸铝与氨水反应:Al3++3OH=Al(OH)3

B.碳酸溶于醋酸:CaCO3+2H+ =Ca2++H2O+CO2

C.氯气跟水反应:Cl2 + H2O = 2H+ Cl+ClO

D.NaHCO3溶液中加入盐酸:H++HCO3 = CO2↑+H2O

 

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