Question

(共14分)W、X、Y、Z是四种常见的短周期元素，其原子半径随原子序数变化如下图所示。

已知W的一种原子的质量数为18，中子数为10；X和Ne原子的核外电子数相差1；Y的单质是一种常见的半导体材料；Z是同周期中非金属性最强的元素。

（1）Y位于元素周期表的位置   ，X与W元素形成的X₂W₂型化合物的电子式为                

（2）Z的气态氢化物和溴化氢相比，较稳定的是      （写化学式）。

（3）Y与Z形成的化合物硬度小、熔点低、沸点低，其晶体中存在的作用力有         

其分子属于        （填极性分子或非极性分子），它和足量水反应，有白色胶状沉淀产生，该反应的化学方程式是                      

（4）在25ºC、101 kPa下，已知Y的气态氢化物在氧气中完全燃烧后恢复至原状态，平均每转移1mol 电子，放热190.0kJ，该反应的热化学方程式是                             

Answer

（1）第三周期、ⅣA族 （2） HCl

（3）范德华力（或分子间作用力）；非极性分子；SiCl4＋3H2O=H2SiO3↓＋4HCl

或 SiCl4 ＋4H2O=H4SiO4↓＋4HCl （4） SiH4(g)＋2O2(g)＝SiO2(s)＋2H2O(l) ；△H=－1520.0kJ/mol

【解析】

试题解析：由信息及质子数+中子数=质量数，则W的质子数为18-10=8，则W为氧元素；由X和Ne原子的核外电子数相差1及X的原子半径比氧原子的半径大，则X为钠元素；Y的单质是一种常见的半导体材料，Y为短周期元素，则Y为硅元素；Z的电负性在同周期主族元素中最大及原子半径X＞Y＞Z，则Z为氯元素；（1）X为钠元素，位于周期表中第三周期第ⅠA族，X与W元素形成的X2W2型化合物的电子式为；（2）因HCl中键长比HBr中键长短，键长越短越稳定，则HCl稳定；（3）Y与Z形成的化合物为SiCl4，它属于分子晶体，其晶体中存在的作用力有分子间的作用力（或范德华力），该分子的空间构型为正四面体型，它属于非极性分子，与足量水反应生成一种弱酸和一种强酸，由元素守恒可知应生成H2SiO3和HCl，反应为SiCl4+3H2O═H2SiO3↓+4HCll；（4）Y的气态氢化物为SiH4，在氧气中完全燃烧后恢复至原状态，平均每转移1mol 电子放热190.0kJ，则1molSiH4燃烧转移8mol电子放热为190.0kJ×8=1520kJ，则该反应的热化学方程式为SiH4（g）+2O2（g）点燃SiO2（s）+2H2O△H=-1520kJ/mol。

考点：“位-构-性”的关系；化学键；热化学方程式