Question

电子工业中用过量的FeCl₃溶液溶解电路板中的铜箔时，会产生大量废液。由该废液回收铜并得到净水剂（FeCl₃•6H₂O）的步骤如下：

(2)I中加入过量Fe粉 ，然后过滤，滤渣中有Cu、Fe，为了得到纯净铜，不产生新的杂质，试剂A应是HCl。.在废液中加入过量铁粉，过滤；

II.向I的滤渣中加入过量试剂A，充分反应后，过滤，得到铜；

III.合并I和II中的滤液，通入足量氯气；

IV.……，得到FeCl₃•6H₂O晶体。

（1）用FeCl₃溶液腐蚀铜箔的离子方程式是       。

（2）试剂A是       。

（3）取少量步骤III所得的溶液于试管中，能够证明通入氯气足量的是        。

a.检验Cl₂的存在       b检验Fe³⁺的存在      c.检验Fe²⁺的不存在

（4）完成步骤IV需要用到的实验装置是         （填字母）。

Answer

（1）2Fe3+ + Cu =2Fe2+ + Cu2+ （2）盐酸 （3）ac （4）ab

【解析】

试题分析：(1)Fe3＋的氧化性强于Cu2＋的，根据氧化还原反应中氧化剂的氧化性大于氧化产物的氧化性，2Fe3＋＋Cu=Cu2＋＋2Fe2＋；(2)I中加入过量Fe粉 ，滤渣中有Cu、Fe，为了得到纯净铜，不产生新的杂质，试剂A应是盐酸；（3）证明氯气过量，验证溶液中有氯气的存在，可以用红色布条；因为氯气过量，Fe2＋全部转化成了Fe3＋，可以验证Fe2＋的是否存在，因此ac正确；（4）从溶液中得到晶体，一般采用蒸发操作法，b正确，当有晶体析出时停止加热，让余温蒸发剩下的水，得到固液共存的状态，再采用过滤法，因此ab正确。

考点：考查铁及其化合物、实验基本操作等相关知识。