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(6分)现代科技的高度快速发展离不开C和Si元素。 (1)写出Si的基态原子核外...

(6分)现代科技的高度快速发展离不开C和Si元素。

(1)写出Si的基态原子核外电子排布式__________________。

(2)从电负性角度分析,C、Si、O元素的非金属活泼性由强至弱的顺序为______。

(3)SiC的晶体结构与晶体硅的相似,其中C原子的杂化方式为_____,微粒间存在的作用力是_______。

(4)C、Si为同一主族的元素,CO2 、SiO2的化学式相似,但结构和性质有很大的不同。CO2中C与O原子间形成σ键和π键,SiO2中Si与O原子间不形成上述π键。从原子半径大小的角度分析,为何C、O原子间能形成上述π键,而Si、O原子间不能形成上述π键:_________________________

 

(6分) (1)1s22s22p63s23p2 (1分) (2)O> C >Si(1分) (3)sp3 (1分)、共价键(1分) (4)Si、O 原子半径差距大,p能级上的电子云很难“肩并肩”重叠,所以,无法形成π键(2分) 【解析】 试题分析:(1)Si原子核外有14个电子,所以电子排布式为:1s22s22p63s23p2。 (2)元素的电负性越大,非金属性越强, C、Si、O元素电负性由大到小的顺序是:O> C >Si,所以非金属活泼性由强至弱的顺序为:O> C >Si。 (3)SiC晶体中,C原子与4个Si原子形成4个σ键,所以C原子的杂化方式为sp3;SiC的晶体结构与晶体硅的相似,属于原子晶体,原子晶体由原子组成,原子间的作用力是共价键。 (4)原子轨道以“肩并肩”方式相互重叠形成的共价键为π键,Si、O 原子半径差距大,p能级上的电子云很难“肩并肩”重叠,所以无法形成π键。 考点:本题考查电子排布式的书写、电负性的应用、晶体、π键的形成。  
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考点分析:
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氮的最高价氧化物为无色晶体,它由两种离子构成,已知其阴离子构型为平面三角形,则其阳离子的构型和阳离子中氮的杂化方式为

A直线      sp杂化                BV型         sp2杂化 

C三角锥形  sp3杂化                D平面三角形  sp2 杂化

 

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由第一电离能数据推断,最有可能生成稳定的单核阳离子的元素是

 

第一电离能(kJ/mol)

1681

1251

1140

1008

A            B            C              D

 

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HNO3中N原子轨道的杂化类型为

Asp1        Bsp2           Csp2        Dsp3

 

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下列晶体熔沸点由高到低的顺序正确的是

①SiC    ②Si    ③HCl    ④HBr    ⑤HI    ⑥CO    ⑦N2    ⑧H2

A①②③④⑤⑥⑦⑧                  B①②⑤④③⑥⑦⑧

C①②⑤④③⑦⑥⑧                  D⑥⑤④③②①⑦⑧

 

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下列各组分子中,都属于含极性键的非极性分子的是

AC2F4     CH3Cl     B.CO2     C2H2    

C.C60   S8           D.NH3    PH3

 

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