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(13分)半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一...

(13分)半导体生产中常需要控制掺杂,以保证控制电阻率,三氯化磷(PCl3)是一种重要的掺杂剂。实验室要用黄磷(即白磷)与干燥的Cl2模拟工业生产制取PCl3,装置如下图所示:(部分夹持装置略去)

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已知:

①黄磷与少量Cl2反应生成PCl3,与过量Cl2反应生成PCl5

②PCl3遇水会强烈水解生成H3PO3和HCl;

③PCl3遇O2会生成POCl3,POCl3溶于PCl3

④PCl3、POCl3的熔沸点如表:

物质

熔点/

沸点/

PCl3

-112

75.5

POCl3

2

105.3

请回答下列问题:

(1)A装置中制氯气的离子方程式为____________。

(2)B中所装试剂是_______;F中碱石灰的作用有两种,分别是______、_______。

(3)实验时,检查装置气密性后,先打开K3通入干燥的CO2,再迅速加入黄磷。通干燥CO2的作用是_______。

(4)粗产品中常含有POCl3、PCl5等.加入黄磷加热除去PCl5后,通过_____(填实验操作名称),即可得到较纯净的PCl3

(5)实验结束时,可以利用C中的试剂吸收多余的氯气,C中反应的离子方程式为_______。

(6)通过下面方法可测定产品中PCl3的质量分数:

①迅速称取1.00g产品,加水反应后配成250mL溶液;

②取以上溶液25.00mL,向其中加入10.00mL 0.1000mol/L碘水,充分反应;

③向②所得溶液中加入几滴淀粉溶液,用0.1000mol/L的Na2S2O3,溶液滴定;

重复操作平均消耗Na2S2O3溶液8.40mL。

已知:H3PO3+I2H3PO4+2HI,I2+2Na2S2O32NaI+Na2S4O6假设测定过程中没有其他反应该产品中PCl3的质量分数为_________。

 

(1)4HCl(浓)+MnO2MnCl2+2H2O+Cl2↑ (2)浓硫酸;冷凝PCl3防止其挥发;吸收多余的氯气,防止空气中的水蒸汽进入烧瓶中和PCl3 反应; (3)排尽装置中的空气,防止白磷自燃 (4)蒸馏 (5)Cl2+2OH-=Cl-+ClO-+2H2O (6)79.75% 【解析】 试题分析:实验室要用黄磷(白磷)与干燥的氯气模拟工业生产制取PCl3流程为:A装置浓盐酸和二氧化锰二者反应生成氯化锰、氯气和水,制得氯气,因PCl3遇水会强烈水解,所以氯气需干燥,B装置利用浓硫酸干燥氯气,K3利用二氧化碳排尽装置中的空气,防止黄磷(白磷)自燃,PCl3沸点为75.5℃,利用E装置防止PCl3挥发(冷凝),因尾气中含有有毒气体氯气,且空气中水蒸气可能进入装置,所以用F装置利用碱石灰吸收多余的氯气,防止空气中的水蒸气进入烧瓶和PCl3反应。 (1)A装置制备氯气,反应的化学方程式为4HCl(浓)+MnO2MnCl2+2H2O+Cl2↑。 (2)因PCl3遇水会强烈水解,所以氯气需干燥,氯气和浓硫酸不反应,所以能用浓硫酸干燥氯;因尾气中含有有毒气体氯气,且空气中水蒸气可能进入装置,所以用F装置利用碱石灰吸收多余的Cl2,防止空气中的水蒸气进入烧瓶和PCl3反应: (3)通入一段时间的CO2可以排尽装置中的空气,防止白磷与空气中的氧气发生自燃; (4)由信息可知,POCl3与PCl3都是液体,沸点相差较大,故可以用蒸馏的方法进行分离; (5)氢氧化钠与氯气反应生成氯化钠和次氯酸钠:Cl2+2OH-=Cl-+ClO-+2H2O; (6)0.1000mol/L碘溶液10.00mL中含有碘单质的物质的量为:0.1000mol/L×0.0100L=0.00100mol,根据反应I2+2Na2S2O3=2NaI+Na2S4O6可知与磷酸反应消耗的碘单质的物质的量为:0.00100mol-0.1000mol/L×0.00084L×0.5=0.00058mol,再由H3PO3+H2O+I2=H3PO4+2HI可知,25mL三氯化磷水解后的溶液中含有的H3PO3的物质的量为:n(H3PO3)=n(I2)=0.00058mol,250mL该溶液中含有H3PO3的物质的量为:0.00058mol×250mL/25mL=0.0058mol,所以1.00g产品中含有的三氯化磷的物质的量为0.0058mol,该产品中PCl3的质量分数为:。 考点:考查物质制备实验方案设计与探究  
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考点分析:
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