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半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅: ①SiO2(s)+2C(s...

半导体工业用石英砂做原料通过三个重要反应生产单质硅:

①SiO2(s)+2C(s)===Si(s)+2CO(g)   ΔH=+682.44 kJ·mol-1

(石英砂)    (粗硅)

②Si(s)+2Cl2(g)===SiCl4(g)   ΔH=-657.01 kJ·mol-1

(粗硅)

③SiCl4(g)+2Mg(s)===2MgCl2(s)+Si(s)   ΔH=-625.63 kJ·mol-1

(纯硅)

用石英砂生产1.00 kg纯硅的总放热为

A.2.43×104 kJ       B.2.35×104 kJ       C.2.23×104 kJ      D.2.14×104 kJ

 

D 【解析】 试题分析:根据盖斯定律:①+②+③得SiO2(s)+2C(s)+2Cl2(g)+2Mg(s)=2MgCl2(s)+Si(s)+2CO(g) (石英砂) (纯硅) ΔH=-600.2kJ·mol-1。1.00 kg纯硅的物质的量为1000g÷28g/mol=35.71mol,故用石英砂生产1.00 kg纯硅的总放热为35.71mol×600.2kJ·mol-1=2.14×104 kJ,选D。 考点:考查反应热的计算、盖斯定律。  
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考点分析:
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下列两组热化学方程式中,有关ΔH的比较正确的是

①CH4(g)+2O2(g)=CO2(g)+2H2O(g) ΔH1

CH4(g)+2O2(g)=CO2(g)+2H2O(l) ΔH2

②NaOH(aq)+满分5 manfen5.comH2SO4(浓)=满分5 manfen5.comNa2SO4(aq)+H2O(l) ΔH3

NaOH(aq)+CH3COOH(aq)=CH3COONa(aq)+H2O(l) ΔH4

A.ΔH1>ΔH2;ΔH3>ΔH4      B.ΔH1>ΔH2;ΔH3<ΔH4

C.ΔH1=ΔH2;ΔH3<ΔH4      D.ΔH1<ΔH2;ΔH3<ΔH4

 

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下列有关叙述正确的是

A.测定中和热时,大小两烧杯间填满碎纸的作用是固定小烧杯的

B.温度计既可以测量温度,又可以充当搅拌器的作用

C.若用50mL 0.55mo1·L—1的氢氧化钠溶液,分别与50mL 0.50mo1·L—1的盐酸和50mL 0.50mo1·L—1的硫酸充分反应,两反应测定的中和热是相等的

D.测定中和热时,烧杯上的盖子是固定温度计和环形搅拌器的

 

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把0.6 mol X气体和0.4 mol Y气体混合于2 L容器中使它们发生如下反应,3X(g)+Y(g)满分5 manfen5.comnZ(g)+2W(g),5 min末已生成0.2 mol W,若测知以Z浓度变化来表示反应的平均速率为0.01 mol/(L·min),则上述反应中Z气体的反应方程式中化学计量数n的值是

A.1      B.2         C.3       D.4

 

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下列说法中正确的是

A.升高温度只能加快吸热反应速率

B.对于任何反应,增大压强都可加快反应速率

C.使用正催化剂只加快正反应速率

D.催化剂可以改变反应速率

 

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下列说法中,正确的是

A.在化学反应过程中,发生物质变化的同时不一定发生能量变化

B.破坏生成物全部化学键所需要的能量大于破坏反应物全部化学键所需要的能量时,反应为吸热反应

C.生成物的总能量大于反应物的总能量时,反应吸热,ΔH>0

D.ΔH的大小与热化学方程式的化学计量数无关

 

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