氯气和氨气在常温下混合即可发生反应。某兴趣小组同学为探究纯净、干燥的氯气与氨气的反应,设计了如下装置:
(1)装置F中发生反应的离子方程式是 ;
(2)装置D中盛放的试剂是 ,其作用是 ;
(3)A装置还可用于制取气体 (只填一种);
(4)若有10.7gNH4Cl,最多可制取标准状况下的氨气的体积是 L;
(5)装置C中有白烟产生,试写出反应的化学方程式 ;
(6)G处逸出的尾气中含有少量Cl2,为防止其污染环境,可将尾气通过盛有 的洗气瓶。
含硫化合物的种类很多,现有SO2、Na2SO3、H2SO4、CuSO4 四种常见的含硫化合物。
回答下列问题:
(1)将SO2通入酸性KMnO4溶液中,溶液由紫色褪至无色。反应结束后,硫元素存在形式合理的是 。
A.S2- B.S C.SO32- D.SO42-
(2)亚硫酸钠中的硫呈+4价,它既有氧化性又有还原性,现有试剂:溴水、H2S、稀硫酸。请选取合适的试剂证明Na2SO3具有还原性。所选试剂是 ,该反应的离子方程式为 。
(3)常温下,将铁棒置于浓硫酸中,无明显现象,有人认为未发生反应。为验证此过程,某同学经过思考,设计了如下实验:将经浓硫酸处理过的铁棒洗净后置于CuSO4溶液中,若铁棒表面 ,则发生了钝化;若铁棒表面 ,则未发生反应。
(4)用铜制备CuSO4溶液,可设计以下三种途径:
写出途径①中反应的离子方程 ,最佳途径是 (填序号),理由是 。
硅单质及其化合物应用很广。请回答下列问题:
(1)制备硅半导体材料必须先得到高纯硅。三氯甲硅烷(SiHCl3)还原法是当前制备高纯硅的主要方法,生产过程示意图如下 :
①写出由纯SiHCl3制备高纯硅的化学反应方程式 。
②整个制备过程必须严格控制无水、无氧。SiHCl3遇水剧烈反应生成H2SiO3、HCl和另一种物质,写出配平的化学反应方程式 ;H2还原SiHCl3过程中若混有O2,可能引起的后果是 。
(2)下列有关硅材料的说法正确的是
A.单质硅化学性质稳定,但可以被强碱溶液腐蚀
B.盐酸可以与硅反应,故采用盐酸为抛光液抛光单晶硅
C.普通玻璃是由纯碱、石灰石和石英砂制成的,其熔点很高
D.光导纤维的主要成分是SiO2
(3)硅酸钠水溶液俗称水玻璃。取少量硅酸钠溶液于试管中,逐滴加入盐酸,振荡。写出实验现象并给予解释(用化学方程式说明) 。
(4)在人体器官受到损伤时,需要使用一种新型无机非金属材料来植入体内,这种材料是 (填字母)。
A.高温结构陶瓷 B.生物陶瓷 C.导电陶瓷
足量铜与一定量浓硝酸反应,得到硝酸铜溶液和NO2、NO 的混合气体2.24LO2(标准状况)这些气体与一定体积O2(标准状况)混合后通入水中,所有气体完全被水吸收生成硝酸。若向所得硝酸铜溶液中加入4mol/L-1 NaOH溶液至Cu2+恰好完全沉淀,则消耗NaOH溶液的体积是50ml,下列说法正确的是
A.参加反应的硝酸是0.4mol
B.消耗氧气的体积为1.68L
C.此反应过程中转移的电子为0.3mol
D.混合气体中含NO21.12L
已知适当条件下+7、+6、+4价锰的化合物都能和浓盐酸反应制得氯气且还原产物都是MnCl2。将6.32g KMnO4粉末加热一段时间后收集到0.112L气体(标准状况,后同),冷却后放入足量的浓盐酸再加热,又收集到VL黄绿色气体,下列说法正确的是
A.V=2.24L
B.参加反应的HCl为0.18mol
C.无法确定最终生成含钾化合物的数量是多少
D.6.32g KMnO4粉末若直接与足量浓盐酸反应可得到2.24L Cl2
将一定量的氯气通入30mL浓度为10.00mol/L的氢氧化钠浓溶液中,加热少许时间后溶液中形成氯化钠、次氯酸钠、氯酸钠共存体系.下列判断正确的是
A.与氢氧化钠反应的氯气一定为0.16 mol
B.n(Na+):n(Cl-)可能为7:3
C.若反应中转移的电子为n mol,则0.15<n<0.25
D.n(NaCl):n(NaClO):n(NaClO3)可能为11:2:1