下列解释实验过程或事实的反应方程式不正确的是
A. 熔融烧碱时,不能使用氧化铝坩埚:Al2O3+2NaOH =2NaAlO2+H2O
B. 刻制印刷电路时用FeCl3溶液作为“腐蚀液”:2Fe3++Cu=Cu2++2Fe2+
C. 打磨后的镁条置于沸水中,滴加酚酞溶液变红色:Mg+2H2O(g)Mg(OH)2+H2↑
D. 向KI溶液中滴加硫酸酸化的双氧水,溶液呈棕黄色:2I-+H2O2+2H+=I2+O2↑+2H2O
某溶液中含有Na+、CO32-、HCO3-、SO32-、Cl-,在加入Na2O2后浓度不发生变化的是
A.Na+、CO32- B.Cl- C.CO32-、Cl- D.HCO3-、SO32-
氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产的流程如下,下列说法不正确的是
A.①③是置换反应,②是化合反应
B.高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅的
C.任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子
D.高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅
将含有0.1mol SiO2的铝、硅混合物分别与足量NaOH溶液、盐酸混合,充分反应后前者可得到11.2L气体(标准状况),后者可得到6.72L气体(标准状况),则参加反应的n(HCl)与n(NaOH)之比为
A.1:1 B.1:2 C.2:1 D.3:1
下列各组离子在指定溶液中能大量共存的是
A.无色溶液中:K+、Na+、MnO4-、SO42-
B.由水电离出的c(OH-)=1.0×10-13mol·L-1的溶液中:Na+、Ba2+、Cl-、Br-
C.有较多Fe3+的溶液中:Na+、NH4+、HCO3-、SO42-
D.强酸性溶液中:K+、NH4+、I-、NO3-
下列对实验现象的预测不正确的是
A.向Ca(OH)2溶液中通入CO2,溶液变浑浊,继续通入CO2至过量,浑浊消失,再加入过量NaOH溶液,溶液又变浑浊
B.向Na2CO3饱和溶液中通入CO2,溶液变浑浊,继续通入CO2,有晶体析出
C.向Ca(ClO)2溶液中通入CO2,溶液变浑浊,再加入品红溶液,红色褪去
D.向Na2SiO3溶液中通入CO2,溶液变浑浊,继续通入CO2至过量,浑浊消失