有关纯碱和小苏打的叙述正确的是
A.等质量的Na2CO3和NaHCO3分别与足量的稀盐酸反应,NaHCO3产生的CO2多
B.等质量的Na2CO3和NaHCO3分别与足量的同种盐酸反应,NaHCO3消耗的盐酸多
C.向NaHCO3溶液中滴入Ba(OH)2溶液无沉淀,而Na2CO3溶液中加入Ba(OH)2溶液出现白色沉淀
D.Na2CO3和NaHCO3都既能与酸反应,又能与氢氧化钠反应
在200ml含Mg2+、Al3+、NH4+、H+、Cl-的溶液中,逐滴加入5mol/L的NaOH溶液,所加NaOH溶液的体积(mL)与产生沉淀的物质的量(mol)关系如图所示。下列叙述不正确的是
A.x-y=0.01mol B.原溶液中c(Cl-)=0.75mol·L-1
C.原溶液的pH=1 D.原溶液中n(Mg2+):n(Al3+)=5:1
下列解释实验过程或事实的反应方程式不正确的是
A. 熔融烧碱时,不能使用氧化铝坩埚:Al2O3+2NaOH =2NaAlO2+H2O
B. 刻制印刷电路时用FeCl3溶液作为“腐蚀液”:2Fe3++Cu=Cu2++2Fe2+
C. 打磨后的镁条置于沸水中,滴加酚酞溶液变红色:Mg+2H2O(g)Mg(OH)2+H2↑
D. 向KI溶液中滴加硫酸酸化的双氧水,溶液呈棕黄色:2I-+H2O2+2H+=I2+O2↑+2H2O
某溶液中含有Na+、CO32-、HCO3-、SO32-、Cl-,在加入Na2O2后浓度不发生变化的是
A.Na+、CO32- B.Cl- C.CO32-、Cl- D.HCO3-、SO32-
氯气用途十分广泛,可用于生产半导体材料硅,其生产的流程如下,下列说法不正确的是
A.①③是置换反应,②是化合反应
B.高温下,焦炭与氢气的还原性均强于硅的
C.任一反应中,每消耗或生成28 g硅,均转移4 mol电子
D.高温下将石英砂、焦炭、氯气、氢气按一定比例混合可得高纯硅
将含有0.1mol SiO2的铝、硅混合物分别与足量NaOH溶液、盐酸混合,充分反应后前者可得到11.2L气体(标准状况),后者可得到6.72L气体(标准状况),则参加反应的n(HCl)与n(NaOH)之比为
A.1:1 B.1:2 C.2:1 D.3:1