满分5 > 高中化学试题 >

H2是一种化工原料,可以制备一系列物质(如下图所示)。下列说法正确的是 A. 使...

H2是一种化工原料,可以制备一系列物质(如下图所示)。下列说法正确的是

A. 使用催化剂可以降低合成氨反应的活化能

B. 用澄清石灰水可以检脸NaHCO3中是否混有Na2CO3

C. 由粗硅制高纯硅的反应类型依次为化合反应、置换反应

D. 聚合物的链节为CH2=CHCl

 

A 【解析】A、有的催化剂可以改变反应历程,使活化能降低,如使用催化剂可以降低合成氨反应的活化能,故A正确;B、氢氧化钙与碳酸钠生碳酸钙和氢氧化钠,氢氧化钙与碳酸氢钠生水,碳酸钙,碳酸钠,均生成CaCO3,故B错误;C、由粗硅制高纯硅的反应类型依次为置换反应、置换反应,故C错误;D、聚合物的链节为,单体是CH2=CHCl,故D错误;故选A。  
复制答案
考点分析:
相关试题推荐

下列指定反应的离子方程式正确的是

A. 向碳酸钠溶液中加入过量醋酸:CO32-+2H+=H2O+CO2

B. 向偏铝酸钠溶掖中通入过量二氧化碳;CO2+2H2O+AlO2-=Al(OH)3↓+HCO3-

C. 向莫尔盐[(NH4)2Fe(SO4)2·6H2O]溶液中加入过量氧氧化钠溶液:NH4++Fe2++3OH-=NH3·H2O+Fe(OH)2

D. 向双氧水中加入酸性高锰酸钾溶液:5H2O2+2MnO4-=2Mn2++5O2↑+6OH-+2H2O

 

查看答案

为制取含HClO浓度较高的溶液,下列图示装置和原理均正确,且能达到实验目的的是

A. 制取氯气    B. 制取氯水    C. 提高HClO浓度    D. 过滤

 

查看答案

常温下,下列各组离子一定能在指定溶液中大量共存的是

A. 投入足量漂白粉后的溶液中:Fe2+、H+、Cl-、SO42-

B. 0.1mol/LFeCl3溶液中:Na+、Ba2+、NO3-、SCN-

C. 的溶液中:NH4+、Ca2+、Cl-、NO3-

D. 水电离的c(OH-)=1×10-13mol/L的溶液中:K+、Na+、AlO2-、CO32-

 

查看答案

短周期主族元素X、Y、Z、W原子序数依次增大,X原子的最外层电子数是次外层的2倍,Y是非金属性最强的元素,在周期表中Z位于IIA,YW属于同一主族。下列说法正确的是

A. 简单气态氢化物的热稳定性:Y<W

B. 原子半径:r(X)<r(Y)<r(Z)<r(W)

C. ZW的简单离子具有相同的电子层结构

D. 化合物ZX2中既含有离子键,又含有共价键

 

查看答案

下列有关物质的性质与用途具有对应关系的是

A. 液氨气化吸热,可用作制冷剂    B. 明矾易溶于水,可用作净水剂

C. 盐酸具有还原性,可用于除去铁锈    D. 浓硝酸具有酸性,可用于钝化铁、铝

 

查看答案
试题属性

Copyright @ 2008-2019 满分5 学习网 ManFen5.COM. All Rights Reserved.