下列关于硅的说法不正确的是
A. 高纯度的单质硅被广泛用于制作计算机芯片
B. 自然界硅元素的贮量丰富,并存在大量的单质硅
C. 常温时硅与水、空气和酸不反应,但能与氢氟酸反应
D. 硅可由二氧化硅还原制得
使溶液中的Al3+完全转化成Al(OH)3,应选择的最好试剂是:
A. NH3·H2O B. NaOH C. CO2 D. HCl
硅是无机非金属材料的主角,硅的氧化物和硅酸盐约占地壳质量的90%以上。
(1)下列物质不属于硅酸盐的是(____)
A.陶瓷 B.玻璃
C.水泥 D.生石灰
(2)SiO2是玻璃的主要成分之一,SiO2与氢氧化钠溶液反应的化学方程式为_______________________,工艺师常用________(填物质名称)来雕刻玻璃。
(3)Na2SiO3可通过SiO2与纯碱混合高温熔融反应制得,高温熔融纯碱时下列坩埚可选用的是________。
A.普通玻璃坩埚 B.石英玻璃坩埚
C.氧化铝坩埚 D.铁坩埚
(4)工业上常利用反应2C+SiO2Si+2CO↑制备硅单质,该反应中氧化剂是________。
有关氨的实验室制取和性质实验如下:
(1)实验室制取氨气的化学方程式为____________________________.验证氨气是否收集满的方法是________________________。
(2)如图是实验室进行氨气溶于水的喷泉实验装置,下列叙述错误的是________.
A.该实验说明氨气是一种极易溶于水的气体
B.进入烧瓶中的液体颜色由无色变为红色,说明氨水呈碱性
C.形成喷泉的原因是氨气溶于水后,烧瓶内的气压小于大气压
D.用氯气代替氨气,利用此装置也可进行喷泉实验
(3)干燥的氨气在高温下能被氧化铜氧化,生成两种单质和一种化合物.反应的化学方程式是___________________________________.
(4)写出Cu与浓硫酸在加热条件下反应的化学方程式_____________________________
铝土矿的主要成分是Al2O3,还含有Fe2O3、SiO2等杂质。
Ⅰ.从铝土矿中提取氧化铝的流程如下图所示:
(1)试剂A是________;溶液b与试剂B反应的离子方程式为________。
(2)加入NaOH溶液进行的反应的离子方程式为_________、____________。
Ⅲ.新型陶瓷氮化铝可用以下两种方法制备
(3)①氧化铝高温还原法: Al2O3 + C + N2 AlN + CO(请配平)
②氯化铝与氨气高温合成法:AlCl3+NH3 AlN+3HCl
(4)方法②比方法①在生产上更具优势。下列说法中,正确的是_______。
A.方法①中的 Al2O3、C、N2结构稳定,反应时破坏化学键需要消耗更多的能量
B.方法①中的Al2O3和C容易残留在氮化铝中
C.两种方法中氮化铝均为还原产物
(1)如图所示,将氯气依次通过盛有干燥的有色布条和湿润的有色布条的广口瓶,可观察到的现象是__________________________________.
(2)写出C12与水反应的化学方程式________________________
(3)为防止氯气污染空气,可用氢氧化钠溶液吸收多余的氯气,原理是________________(用化学方程式表示).根据这一原理,工业上常用廉价的石灰乳吸收工业氯气尾气制得漂白粉,漂白粉的有效成分是________(填化学式,下同)。
(4)氯气泄漏时,人们需尽快远离现场,可用浸有一定浓度某物质水溶液的毛巾捂住口鼻,最适宜采用的物质是__________.
A.NaOH B.NaCl C.KBr D.Na2CO3.