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晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下: ①高温下用碳还原二氧化硅...

晶体硅是一种重要的非金属材料,制备纯硅的主要步骤如下:

①高温下用碳还原二氧化硅制得粗硅;

②粗硅与干燥HCl气体反应制得SiHCl3Si3HClSiHCl3H2

SiHCl3与过量H21 0001 100 ℃反应制得纯硅已知SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃。

请回答下列问题:

(1)第①步制备粗硅的化学方程式为_____________________________________________

(2)粗硅与HCl反应完全后,经冷凝得到的SiHCl3(沸点33.0 )中含有少量SiCl4(沸点57.6 )HCl(沸点-84.7 ),提纯SiHCl3采用的方法为___________________________

(3)SiHCl3与过量H2反应制备纯硅的装置如下(热源及夹持装置略去)

①装置B中的试剂是________。装置C中的烧瓶需要加热,其目的是________________________________________________________________

②反应一段时间后,装置D中观察到的现象是________,装置D不能采用普通玻璃管的原因是____________,装置D中发生反应的化学方程式为_____________________________________________________________

③为保证制备纯硅实验的成功,操作的关键是检查实验装置的气密性,控制好反应温度以及___________________________________________________________

 

SiO2+2CSi+2CO↑ 分馏(或蒸馏) 浓硫酸 使滴入烧瓶中的SiHCl3汽化 有固体生成 在该反应温度下,普通玻璃会软化 SiHCl3+H2Si+3HCl 排尽装置内的空气 【解析】 (1)第①步制备粗硅是碳和二氧化硅发生置换反应,生成硅和一氧化碳。 (2)根据沸点SiHCl3(沸点33.0 ℃)、 SiCl4(沸点57.6 ℃)、HCl(沸点-84.7 ℃),提纯SiHCl3。 (3)用锌和稀硫酸制取氢气,用浓硫酸干燥后通入C中,C中烧瓶中的SiHCl3用热水加热后蒸发,和氢气一起进入D中发生反应Si+3HClSiHCl3+H2,多余的氢气需要尾气处理。 分离沸点不同的液体的方法是分馏,根据题干“SiHCl3能与H2O强烈反应,在空气中易自燃”可知道H2的作用之一就是排尽装置内空气,防止SiHCl3自燃,而此处的H2必须是干燥的,可知B的作用就是干燥H2,所以选用浓硫酸。由于通入D中应是稳定的SiHCl3与过量H2的气流,所以C装置需要加热,并且是水浴加热,由D装置应加热到1 000~1 100 ℃,所以必须用石英管。  
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从硅的氧化物可以制取硅单质,主要化学反应如下:粗硅的制取:

由粗硅制纯硅(常用方法)Si()2Cl2SiCl4   SiCl42H2Si()4HCl

根据以上反应,回答下列问题。

1)在制取粗硅的反应中,焦炭的作用是什么___

2)在由粗硅制纯硅的反应中,氯气(Cl2)Si的反应属于什么类型的反应___SiCl4H2的反应属于什么类型的反应___H2的作用是什么___

 

 

3)在半导体工业中有这样一句行话:从沙滩到用户,你是如何理解的___

 

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如何除去下列各粉末状混合物中的杂质(括号内为杂质)?请选用下列提供的试剂和操作,将标号填在表内。

试剂:A.盐酸   B.烧碱溶液   C.氧气   D.水   E.二氧化碳   F.不用其他试剂

操作:①加热燃烧   ②加热熔融   ③充分加热   ④过滤   ⑤结晶

物质

试剂

操作

1Na2CO3(NaHCO3)

___

___

2SiO2(CaO)

___

___

3SiO2(Si)

___

___

4NaCl(SiO2)

___

___

 

 

 

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下列各组物质中,满足下图物质一步转化关系的选项是

选项

X

Y

Z

A

Na

NaOH

NaHCO3

B

Cu

CuSO4

Cu(OH)2

C

C

CO

CO2

D

Si

SiO2

H2SiO3

 

 

A.A B.B C.C D.D

 

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下列物质的变化,不能通过一步化学反应完成的是

A.CO2→H2CO3 B.SiO2→H2SiO3  C.Na2O2→Na2CO3 D.SiO2→Na2SiO3

 

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在一定条件下,下列物质不能和SiO2反应的是(    

①焦炭   ②烧碱   ③氧气   ④氢氟酸   ⑤硝酸  ⑥氢氧化钾   ⑦氧化钙

A.②⑥⑦ B.⑤⑦

C.①④⑤ D.③⑤

 

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