Question

超纯氢氟酸主要用作芯片材料清洗和蚀刻。回答下列问题：

(1)氢氟酸可保存在聚四氟乙烯容器中，聚四氟乙烯的结构简式为_____________________。

(2)工业氢氟酸生产超纯氢氟酸时，需经除杂质(AsF₃)、气化、洗涤等步骤。

①除去AsF₃的反应为4AsF₃＋4KMnO₄＝4MnO₄＋2As₂O₅＋4KF＋3O₂↑，该反应的氧化产物为___________。

②CoF₃可与H₂O反应生成HF，该反应的化学方程式为___________________________(CoF₃还原为CoF₂)

③在无水氟化氢汽化时，可向发生装置中掺入含有F₂，NF₃和OF₂中的一种或多种的含氟气体，以氧化杂质。NF₃的电子式为_________；OF₂中氧元素的化合价为___________，OF₂可由F₂与稀NaOH溶液反应制取，该反应的离子方程式为____________________________。

Answer

As2O5、O2 4CoF3＋2H2O=4HF↑＋4CoF2＋O2↑ +2 2F2＋2OH－=OF2↑＋2F－＋H2O

【解析】

(1)聚四氟乙烯的单体为CF2=CF2，CF2=CF2发生加聚反应得到；

(2)①根据还原剂发生氧化反应，得到产物是氧化产物，还原剂化合价升高，据此分析；

②根据氧化还原反应的规律进行分析；

③NF3的电子式类似NH3，F的非金属性强于O，根据氧化还原反应规律书写反应方程式，据此分析；

(1)聚四氟乙烯的单体是CF2=CF2，CF2=CF2通过加聚反应得到聚四氟乙烯，即四氟乙烯的结构简式为；

答案：；

(2)①氧化产物是还原剂被氧化得到，还原剂在反应中化合价升高，根据反应方程式，As的化合价由＋3→＋5价，化合价升高，As2O5为氧化产物，O部分化合价由－2价→0价，化合价升高，O2也是氧化产物；

答案：As2O5、O2；

②CoF3还原成CoF2，Co的化合价降低，应有元素的化合价升高，O2－的还原性强于F－，即CoF3将H2O中O氧化成O2，因此反应方程式为4CoF3＋2H2O=4HF↑＋4CoF2＋O2↑；

答案：4CoF3＋2H2O=4HF↑＋4CoF2＋O2↑；

③NF3属于共价化合物，其电子式为；F的非金属性强于O，F的化合价为－1价，则O的化合价为＋2价；OF2可由F2与NaOH反应，F2作氧化剂，将－2价O氧化成OF2，本身被还原成F－，即离子反应方程式为2F2＋2OH－=OF2↑＋2F－＋H2O；

答案：；+2；2F2＋2OH－=OF2↑＋2F－＋H2O。