只用一种试剂区别Na2SO4、MgCl2、Al2(SO4)3三种溶液,这种试剂是( )
A.H2SO4 B.Ba(OH)2 C.NaOH D.AgNO3
今有下列三个氧化还原反应:(1)2FeCl3+2KI =2FeCl2+2KCl+I2(2)2FeCl2+Cl2 = 2FeCl3 (3)2KMnO4+16HCl = 2KCl+2MnCl2+8H2O+5Cl2↑ 若某溶液中有 Fe2+ 和 I- 共存,要氧化除去I-而又不影响Fe2+ 和Cl- ,可加入的试剂是
A. FeCl3 B. KMnO4 C. Cl2 D. HCl
高纯度晶体硅是良好的半导体材料,它的发现和使用引起了计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备:
SiO2Si(粗)SiHCl3Si(纯)
下列说法不正确的是( )
A.步骤③中氢气作还原剂
B.硅和二氧化硅都能用作计算机“芯片”
C.步骤①的化学方程式为:SiO2+2CSi+2CO↑
D.步骤①②③中发生的反应都属于氧化还原反应
下列物质都具有漂白性,漂白原理与其它几种不同的是( )
A.氯水 B.SO2 C.H2O2 D.HClO
某溶液中含有Na+、K+、HCO3-、SO32-等离子。向其中加入足量Na2O2后,溶液中离子浓度基本保持不变的是( )
A.Na+ B.SO32- C.K+ D.HCO3-
下列有关离子方程式错误的是( )
A.盐酸与氢氧化钡溶液反应:H++OH-=H2O
B.碳酸钙与稀盐酸反应:CaCO3+2H+=Ca2++CO2↑+H2O
C.铜粉与足量的稀硝酸反应:3Cu+8H++2NO3-=3Cu2++2NO↑+4H2O
D.硫酸铝溶液与过量氢氧化钠溶液反应:Al3++3OH-=Al(OH)3↓