一块表面己被缓慢氧化的金属钠,其质量为10.8g,投入100g水中,收集到氢气0.2g。则原来钠块表面被氧化的钠的质量是
A.6.2g B.4.6g C.7.8g D.10.6g
ClO2是一种新型水消毒剂,工业上用NaClO2与盐酸反应制备ClO2的反应为5NaClO2+4HCl(稀)=5NaCl+4ClO2↑+2H2O,下列说法正确的是( )
A.反应中HCl作还原剂
B.ClO2之所以能做水消毒剂,是利用了它的强氧化性
C.反应中氧化产物与还原产物物质的量之比为4:5
D.反应中每生成1molClO2转移4mol电子
下列实验能达到目的的是( )
A | B | C | D |
实验室制备Fe(OH)2 | 实验室制氯气 | 分离胶体和溶液 | 油、水分离 |
A.A B.B C.C D.D
只用一种试剂区别Na2SO4、MgCl2、Al2(SO4)3三种溶液,这种试剂是( )
A.H2SO4 B.Ba(OH)2 C.NaOH D.AgNO3
今有下列三个氧化还原反应:(1)2FeCl3+2KI =2FeCl2+2KCl+I2(2)2FeCl2+Cl2 = 2FeCl3 (3)2KMnO4+16HCl = 2KCl+2MnCl2+8H2O+5Cl2↑ 若某溶液中有 Fe2+ 和 I- 共存,要氧化除去I-而又不影响Fe2+ 和Cl- ,可加入的试剂是
A. FeCl3 B. KMnO4 C. Cl2 D. HCl
高纯度晶体硅是良好的半导体材料,它的发现和使用引起了计算机的一场“革命”。它可以按下列方法制备:
SiO2Si(粗)SiHCl3Si(纯)
下列说法不正确的是( )
A.步骤③中氢气作还原剂
B.硅和二氧化硅都能用作计算机“芯片”
C.步骤①的化学方程式为:SiO2+2CSi+2CO↑
D.步骤①②③中发生的反应都属于氧化还原反应