Question

聚乙烯醇肉桂酸酯(M)可用作光刻工艺中的抗腐蚀涂层，其合成路线如图：

已知：R₁—CHO＋R₂—CH₂CHO。

请回答：

（1）C的化学名称为__；M中含氧官能团的名称为__。

（2）F→G的反应类型为__。

（3）C→D的化学反应方程式为___。

（4）E能与新制的Cu(OH)₂反应，该反应的化学方程式是__。

（5）关于H的性质下列说法正确的是__（填字母）。

a.存在顺反异构

b.溶液呈酸性，能与Na和NaOH溶液反应

c.能使KMnO₄（H⁺）溶液和Br₂（CCl₄）溶液褪色

d.能发生银镜反应、酯化反应、加成反应和消去反应

（6）符合下列条件的F的同分异构体有__种。

①属于芳香族化合物   ②能与NaHCO₃反应放出CO₂

其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为__(任写一种)。

Answer

聚氯乙烯； 酯基； 消去反应 +2Cu（OH）2+NaOH+Cu2O↓+3H2O abc 14

【解析】

D和H发生酯化反应生成M，根据D和M结构简式知，H结构简式为，G发生氧化反应生成H，则G结构简式为，F发生消去反应生成G，E发生加成反应生成F，则E、F结构简式为、，A和HCl发生加成反应生成B，B发生加聚反应生成C，则C结构简式为，B结构简式为CH2=CHCl，A结构简式为HC≡CH。

（1）通过以上分析知，C为聚氯乙烯，M中含氧官能团是酯基，故答案为：聚氯乙烯；酯基；

（2）F发生消去反应生成G，G中新生成的官能团是碳碳双键；

故答案为：消去反应；

（3）C发生取代反应生成D，反应方程式为，

故答案为：；

（4）E结构简式为，E能与新制的Cu(OH)2反应生成和Cu2O，该反应的化学方程式是+2Cu（OH）2+NaOH+Cu2O↓+3H2O。

故答案为：+2Cu（OH）2+NaOH+Cu2O↓+3H2O

（5）H的顺式结构简式为，关于H的性质下列说法

a．双键的两个不饱和碳原子上所连的原子或原子团不同，存在顺反异构，故正确；

b．H中含有羟基，溶液呈酸性，能与Na和NaOH溶液反应，故正确；

c．H中的碳碳双键，能使KMnO4（H+）溶液和Br2（CCl4）溶液褪色，故正确；

d．没有醛基不能发生银镜反应，故错误；

故选abc；

（6）F为，F的同分异构体符合下列条件：

①属于芳香族化合物，说明含有苯环；

②能发生水解反应和银镜反应，说明含有醛基和酯基，

取代基为HCOO－和-CH2CH3有邻间对3种；

如果取代基为HCOOCH2－和-CH3有邻间对3种；

如果取代基为HCOOCH（CH3）-有1种；

如果取代基为HCOOCH2CH2－有1种；

如果取代基为-OOCH和两个-CH3，两个甲基位于相邻物质，有2种；如果两个甲基位于间位，有3种；如果两个甲基位于对位，有1种，符合条件的有14种；

其中核磁共振氢谱有4种吸收峰的物质的结构简式为，

故答案为：14；。