用下列实验装置进行相应实验，能达到实验目的的是
A.
制备乙酸乙酯
B.
配置一定物质的量浓度的NaOH溶液
C.
在铁制品表面镀铜
D.
制取少量CO2气体
下列表示对应化学反应的离子方程式正确的是
A.NO2溶于水：2NO2＋H2O=2H＋＋2NO3-
B.向氨水溶液中通入过量SO2：2NH3·H2O＋SO2=2NH4+＋SO32-＋H2O
C.酸性介质中KMnO4氧化H2O2：2MnO4-＋5H2O2＋6H＋=2Mn2＋＋5O2↑＋8H2O
D.明矾[KAl(SO4)2·12H2O]溶液中加入过量Ba(OH)2溶液：Al3＋＋SO42-＋Ba2＋＋4OH−=AlO2-＋BaSO4↓＋2H2O
室温下，下列各组离子在指定溶液中能大量共存的是
A.新制氯水中：NH4+、Na＋、SO42-、SO32-
B.0.1 mol·L－1 CaCl2溶液：Na＋、K＋、AlO2-、SiO32-
C.浓氨水中：Al3＋、Ca2＋、Cl−、I－
D.0.1 mol·L－1 Fe2(SO4)3溶液：H＋、Mg2＋、NO3-、Br－
室温下，下列各组离子在指定溶液中能大量共存的是
A.使甲基橙呈红色的溶液：Fe2＋、Mg2＋、SO42-、Cl−
B.使KSCN呈红色的溶液：Al3＋、NH4+、S2−、I−
C.使酚酞呈红色的溶液：Mg2＋、Cu2＋、NO3-、SO42-
D.由水电离出的c(H＋)＝10－12mol·L－1的溶液：Na＋、K＋、NO3-、HCO3-
下列有关物质的性质与用途具有对应关系的是
A.SO2水溶液呈酸性，可用于漂白纸浆 B.晶体硅熔点高，可制半导体材料
C.Al(OH)3呈弱碱性，可用于治疗胃酸过多 D.H2O2具有还原性，可用于消毒杀菌
学生为探究苯与溴发生反应的原理，用如图所示装置进行了实验。根据相关知识回答下列问题：
(1)实验开始时，关闭K2，开启K1和分液漏斗活塞，滴加苯和液溴的混合液，反应开始。过一会儿，在装置Ⅲ中可能观察到的现象是______________________________________。
(2)整套实验装置中能防止倒吸的装置有___________________________(填装置序号)。
(3)写出装置Ⅱ中发生反应的化学方程式：_____________________________________。
(4)本实验能不能用溴水代替液溴？___________________________________________。
(5)采用冷凝装置，其作用是_________________________________________________。
(6)Ⅲ装置中小试管内苯的作用是_____________________________________________。
