A、B、C、D均为短周期主族元素，原子序数依次增大，其原子的最外层电子数之和为22，A和C同主族，B原子的电子层数与最外层电子数相等，B、C、D的单质均可与NaOH溶液反应。下列说法正确的是
A.原子半径和简单离子半径的关系均满足：B>A
B.简单氢化物的沸点：A>C
C.B与C形成的化合物在水中不存在，故不能用单质直接化合反应制得
D.工业上常用电解B、D形成的化合物来制备B单质
NA代表阿伏加德罗常数的值。下列说法正确的是
A.标准状况下，11.2 L14CO2含有的中子数为11NA
B.常温下，12 g NaHSO4中含有的离子数为0.3NA
C.将22.4 L Cl2通入NaOH溶液中充分反应，转移电子数为NA
D.6.4 g S2和S8的混合物中所含硫原子数为0.2NA
室温下，下列各组离子在指定溶液中能大量共存的是
A.0. 1 mol/LKI 溶液：Na+、K+、ClO-、OH-
B.澄清透明的溶液中：Fe3+、Na+、SCN-、Cl-
C.c(Fe2+) =1 mol/L的溶液中：K+、Na+、NO3-、SO42-
D.pH=l的无色溶液中：SO42-、Cl-、Na+、Cu2+
下列关于元素及其化合物的说法正确的是( )
A.SO2具有漂白性，所以能使碘的淀粉溶液由蓝色变为无色
B.金属单质Na、Mg、Fe在一定条件下都与水反应生成H2和相应的碱
C.SiO2既可与NaOH溶液反应也可与HF溶液反应，所以SiO2属于两性氧化物
D.NaHCO3可用于制备纯碱、食品发酵剂、治疗胃酸过多的药剂
下列分类或归类正确的是
A.CaSO4、HCl、Na2O均为强电解质
B.雾、云、烟、纳米材料均为胶体
C.NaOH、HD、H2O均为化合物
D.C60、金刚石、石墨均为碳的同位素
甲硅烷广泛用于电子工业、汽车领域，三氯氢硅（SiHCl3）是制备甲硅烷的重要原料。回答下列问题：
(1)工业上以硅粉和氯化氢气体为原料生产SiHCl3时伴随发生的反应有：
Si(s)＋4HCl(g)=SiCl4(g)＋2H2(g) ∆H＝-241kJ/mol
SiHCl3(g)＋HCl(g)=SiCl4(g)＋H2(g) ∆H＝-31kJ/mol
以硅粉和氯化氢气体生产SiHCl3的热化学方程式是 ___。
(2)铝锂形成化合物LiAlH4既是金属储氢材料又是有机合成中的常用试剂，遇水能得到无色溶液并剧烈分解释放出H2，请写出其水解反应化学方程式____。LiAlH4在化学反应中通常作_______(填“氧化”或“还原”)剂。工业上可用四氯化硅和氢化铝锂（LiAlH4）制甲硅烷，反应后得甲硅烷及两种盐。该反应的化学方程式为 _________
(3)三氯氢硅歧化也可制得甲硅烷。反应2SiHCl3(g)
SiH2Cl2(g)+SiCl4(g)为歧化制甲硅烷过程的关键步骤，此反应采用一定量的PA100催化剂，在不同反应温度下测得SiHCl3的转化率随时间的变化关系如图所示。
①353.15K时，平衡转化率为____，该反应是____反应（填“放热”“吸热”）。
②323.15K时，要缩短反应达到平衡的时间，可采取的最佳措施是____。
(4)比较a、b处反应速率的大小：Va ___Vb （填“＞”“＜”或“＝”）。已知反应速率V正=K1x2SiHCl3，V逆=K2xSiH2Cl2xSiCl4，K1，K2分别是正、逆反应的速率常数，与反应温度有关，x为物质的量分数，则在353.15K时K1/K2 ＝____（保留3位小数）。
(5)硅元素最高价氧化物对应的水化物是H2SiO3，室温下，0.1mol/L的硅酸钠溶液和0.1mol/L的碳酸钠溶液，碱性更强的是 ___，其原因是____。已知：H2SiO3 :Ka1=2.0×10-10、Ka2=2.0×10-12、H2CO3 ：Ka1=4.3×10-7，Ka2=5.6×10-11
