Question

实验室用H₂还原SiHCl₃(沸点：31.85 ℃)制备纯硅的装置如图所示(夹持装置和尾气处理装置略去)，下列说法正确的是(    )

A. 装置Ⅱ、Ⅲ中依次盛装的是浓H₂SO₄、冰水

B. 实验时，应先加热管式炉，再打开盛装稀硫酸的分液漏斗

C. 为鉴定制得的硅中是否含微量铁单质，用到的试剂可以为：盐酸、双氧水、硫氰化钾溶液

D. 该实验中制备氢气的装置也可用于氢氧化钠稀溶液与氯化铵固体反应制备氨气

Answer

C

【解析】

本题制备晶体硅，H2＋SiHCl3Si＋3HCl，此反应应在IV装置中进行，A、装置I的目的是制备氢气，氢气中含有水蒸气，对后续实验产生干扰，必须除去，因此装置II的目的是除去氢气中的水蒸气，即II中盛放浓硫酸，III的提供SiHCl3气体，因此在水浴中加热，故A错误；B、应先通入氢气，目的是排除装置中的空气，防止发生危险，故B错误；C、硅不与盐酸反应，铁与盐酸反应生成Fe2＋，Fe2＋被H2O2氧化成Fe3＋，与KSCN溶液变红，可以鉴定是否含有铁单质，故C正确；D、用NaOH溶液制备氨气，需要加热或NaOH溶液为浓溶液，I装置中没有加热装置，且NaOH溶液为稀溶液，因此此装置不能制备氨气，故D错误。