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下列有关物质性质与用途具有对应关系的是 A. 晶体硅熔点高硬度大,可用于制造半导...

下列有关物质性质与用途具有对应关系的是

A. 晶体硅熔点高硬度大,可用于制造半导体材料

B. 碳酸钠溶液显碱性,可用于除去金属器件表面的油脂

C. 碳酸氢钠能与碱反应,可用作焙制糕点的膨松剂

D. 明矾溶于水能形成胶体,可用于自来水的杀菌消毒

 

B 【解析】 A. 晶体硅熔点高硬度大与可用于制造半导体材料无关系,因为硅的导电性介于导体与绝缘体之间,晶体硅用于制造半导体材料,A错误; B. 碳酸钠溶液显碱性,可用于除去金属器件表面的油脂,B正确; C. 碳酸氢钠受热分解、以及与酸反应产生二氧化碳,因此可用作焙制糕点的膨松剂,C错误; D. 明矾溶于水能形成胶体,可用于净水,不能用于自来水的杀菌消毒,D错误; 答案选B。  
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考点分析:
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下列有关化学用语的表示,正确的是

A.氨基(NH2)的电子式:

B.钾离子的结构示意图:

C.二氧化碳分子的比例模型:

D.碳酸的电离方程式:H2CO3CO32+ 2H+

 

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每年322日为世界水日。下列有关废水的处理正确的是

A.工业废水无需处理,直接用于农业灌溉

B.废水经氯气消毒后,即可安全再利用

C.寻找方式来减少和再利用废水可节约水资源

D.收集和处理废水,弊大于利

 

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中国尿素合成塔(尿塔)使用寿命仅为欧美国家的1/4。为此北京钢铁研究院对某尿塔腐蚀过程进行研究,得出下列腐蚀机理:

(1)H2S来自合成尿素的天然气。在380K、体积为2L的密闭容器中,存在反应:H2(g)S(s)H2S(g)   H=+21.6 kJ·mol1。反应达到平衡时,H2SH2S的物质的量均为3 mol

380K时该反应的化学平衡常数为__________

②下列对该反应分析正确的是_________(填序号)

(2)反应II的化学方程式为:____________________________________

(3)已知室温下H2S2O3K12.2×101K22.5×102

Na2S2O3水溶液中电荷守恒式为___________________________

②反应IV的化学方程式_____________________________________。该反应_________(不能”)说明FeS溶解性强于FeS2O3

(4)此尿塔的最终腐蚀产物为__________________。为了有效防腐,北钢建议该尿塔在生产中用CuSO4溶液脱硫(H2S)”,离子反应方程式为_________(室温下,H2SK11.3×107K27.1×1015CuSKsp6.3×1036)

 

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某小组利用H2C2O4溶液和酸性KMnO4溶液反应来探究条件对化学反应速率的影响。实验时,先分别量取两种溶液,然后倒入试管中迅速振荡,混合均匀,开始计时,通过测定褪色所需时间来判断反应的快慢。该小组设计了如下方案:

编号

H2C2O4溶液

酸性KMnO4溶液

温度/

浓度(mol/L

体积/mL

浓度(mol/L

体积/mL

0.10

2.0

0.01

4.0

25

0.20

2.0

0.01

4.0

25

0.20

2.0

0.01

4.0

50

 

 

 

1)已知反应后H2C2O4转化为CO2逸出,为了观察到紫色褪去,H2C2O4KMnO4初始的物质的量需要满足的关系为:n(H2C2O4)∶n(KMnO4) ______________

2)探究温度对化学反应速率影响的实验编号是_______  (填编号,下同),可探究反应物浓度对化学反应速率影响的实验编号是 ________.

3)实验①测得KMnO4溶液的褪色时间为40s,忽略混合前后溶液体积的微小变化,这段时间内平均反应速率v(KMnO4)=_______

 

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ClO2气体是一种高效、广谱、安全的杀菌消毒剂,可用NaClO3和草酸(H2C2O4)反应制得。无水草酸100℃可以升华。某学习小组用下图装置模拟工业制取收集ClO2

1)实验时装置A需在60~100℃进行的原因是_________,控制所需温度的方法是________

2)装置A中反应产物有Na2CO3ClO2CO2等,该反应的化学方程式为___________

3)在装置CClO2NaOH反应生成等物质的量的两种盐,其中一种盐为NaClO2 ,写出反应的离子方程式_________________

 

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