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短周期元素W、X、Y、Z的原子序数依次增大,W 与Y最外层电子数之和为X的最外层...

短周期元素W、X、Y、Z的原子序数依次增大,W Y最外层电子数之和为X的最外层电子数的2倍,Z最外层电子数等于最内层电了数,X、Y、Z的简单离子的电子层结构相同,W 的单质是空气中体积分数最大的气体。下列说法正确的是(   )

A.Y 的最高价氧化物对成水化物的酸性比W 的强 B.W的气态氢化物比X的稳定

C.离子半径的大小顺序:r(W)>r(X)>r(Y) >(Z) D.XY2 ZY2中的化学键类型相同

 

C 【解析】 短周期元素W、X、Y、Z 的原子序数依次增大,W的单质是空气中体积分数最大的气体,则W为N元素;Z最外层电子数等于最内层电子数,原子序数大于N元素,只能处于第三周期,故Z为Mg元素;X、Y、Z的简单离子的电子层结构相同,结构原子序数可知,X只能处于第二周期,且最外层电子数大于5,W(氮元素)与Y最外层电子数之和为X的最外层电子数的2倍,则Y原子最外层电子数只能为奇数,结合原子序数可知,Y不可能处于ⅠA族,只能处于ⅦA族,故Y为F元素,X最外层电子数为=6,则X为O元素。 根据上述分析可知, A、Z为Mg元素最高正化合价为+2,Y为F元素,没有最高正化合价,故A错误; B、非金属性O>N,故氢化物稳定性H2O>NH3,故B错误; C、具有相同电子层结构的离子,核电荷数越大,离子半径越小,故离子半径r(N3-)>r(O2-)>r(F-)>r(Mg2+),故C正确; D、OF2中含有共价键,MgF2中含有离子键,二者化学键类型不同,故D错误; 故选C。  
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考点分析:
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下列说法正确的是(   

A.石墨转变为金刚石是吸热反应,因此,石墨比金刚石稳定

B.反应物的总能量低于生成物的总能量的反应为放热反应

C.化学反应中的能量变化只表现为热量的变化

D.凡是需要加热的反应都是吸热反应

 

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铝元素含量居金属首位, 主要存在于铝土矿(主要成分为Al2O3,还含有Fe2O3FeOSiO2)中。铝的单质及其化合物在生产、生活、科研等领城应用广泛。

、工业上用铝土矿制备铝的某种化合物的工艺流程如下:

1)在滤液A中加入漂白液,目的是氧化除铁,所得滤液B显酸性。

①该过程中涉及某氧化还原反应如下,请完成:

Fe2++□ClO-+□         ═□Fe(OH)3↓+□Cl-+□__________

②检验滤液B中是否还含有铁元素的方法为:_________________________

③将滤液B中的铝元素以沉淀形式析出,可选用的最好试剂为__________(选填代号)

A.氢氧化钠溶液                  B.硫酸溶液                 C.氨水             D.二氧化碳

④由滤液B制备氯化铝晶体涉及的操作为:边滴加浓盐酸边蒸发浓缩、__________(填操作名称)、过滤、洗涤。

、明矾(KAl(SO4)2·12H2O)在日常生活、生产中也占有一席之地。

1)明矾曾经是净水明星,用离子方程式表示其净水原理_____________________________

2)明矾净水时,若不慎过量会有一定程度的副作用。将含有明矾的水溶液中加入Ba(OH)2溶液至铝离子恰好完全沉淀,并且过滤,就可以避免,请用离子反方程式描述其过程______________

 

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某同学对教材中铜与浓硫酸的实验作出如下改进。实验装置如图所示(加热和夹持装置已略去)

实验步骤:

①组装仪器,检查装置气密性;

②加入试剂,关闭旋塞E,加热A,观察C中溶液颜色变化;

③将铜丝上提离开液面,停止加热。

1)检查虚线框内装置气密性的方法是____________________________

2)装置A的名称是________,装置B的作用是_________,装置D中所盛药品是__________

3)装置A中发生反应的化学方程式为____________________________

4)实验后,拆除装置前,为避免有害气体的泄漏,应当采取的操作是__________

5)实验后装置A中有白色固体产生,将装置A中固液混合物缓慢转移至盛有少量水的烧杯中,可观察到的现象是______________;不可直接向装置A中加水的原因是__________

 

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海带中碘含量比较高,从海带提取碘的操作如下:

(1)将干海带进行灼烧的仪器是____________,海带灰中含有较多KI,将海带灰溶于水,然后过滤得到澄清滤液。

(2)向上述滤液中加入硫酸和H2O2混合溶液,得到棕褐色含有单质碘的水溶液。请写出离子反应方程式:___________________________________________________________

(3)向上述碘的水溶液中加入适量CCl4,振荡,静置,则I2会转入到CCl4层中,这个过程叫_____________________,现象为________________________________________

(4)3I26KOH=5KIKIO33H2O1.5mol I2完全反应转移电子的物质的量为_____mol,氧化剂与还原剂的物质的量之比为___________   

(5)某一反应体系有反应物和生成物共6种物质:O2K2Cr2O7Cr2(SO4)3H2SO4H2OH2O2K2SO4。已知该反应中H2O2只发生如下过程:H2O2→O2

该反应中,氧化剂为_______________;氧化产物为_______________

写出该反应的化学方程式______________________________________________

 

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电子工业常用30%的FeCl3溶液腐蚀敷在绝缘板上的铜箔,制造印刷电路板。

(1)检验溶液中Fe3+存在的试剂是________,证明Fe3+存在的现象是________

(2)写出FeCl3溶液与金属铜发生反应的离子方程式:________

(3)某工程师为了从使用过的腐蚀废液中回收铜,并重新获得纯净的FeCl3溶液,准备采用下列步骤:

请写出上述实验中加入或生成的有关物质的化学式。

________,④________

(4)要证明某溶液中不含Fe3+而可能含有Fe2+,进行如下实验操作时的最佳顺序为________

①加入足量氯水 ②加入足量KMnO4溶液 ③加入少量KSCN溶液

A.①③     B.③②     C.③①    D.①②③

(5)写出向②⑤的混合液中通入⑥的离子方程式:________

 

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