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集成电路(芯片)是一种把电路小型化的方式,并制造在半导体晶圆表面上,芯片的基础工...

集成电路(芯片)是一种把电路小型化的方式,并制造在半导体晶圆表面上,芯片的基础工作在于半导体的工艺,其中包括在晶圆中注入离子,生成PN类半导体.如图所示,在离子注入工艺口,初速度可忽略的磷离子P+P3+,经电压为U的电场加速后,垂直进入方向垂直纸面向里、宽度为d的匀强磁场区域,其中离子P+在磁场中转过θ=30°后从磁场右边界射出.已知P+P3+的质量均为m,电荷量分别为e3e(e表示元电荷)

1)求匀强磁场的磁感应强度B的大小:(用题给符号表示)

2)求P3+在磁场中转过的角度Φ。

 

(1)(2)600 【解析】 (1)对离子P+在电场中的加速运动,由动能定理: 在磁场中,洛伦兹力提供向心力: 由几何关系可得: 因此,匀强磁场的磁感应强度B的大小为: (2)对离子P3+在电场中的加速运动,由动能定理: 在磁场中,洛伦兹力提供向心力: 由几何关系可得: 因此,P3+在磁场中转过的角度:  
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考点分析:
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某同学在练习使用多用电表时连接的电路如甲图所示

1)若旋转选择开关,使尖端对准直流电流挡,此时测得的是通过________(选填R1R2)的电流;

2)若断开电路中的电键,旋转选择开关使其尖端对准欧姆档,则测得的是_________

A. R1的电阻             B.R2的电阻    

C.R1R2的串联电阻    D.R1R2的并联电阻

3)将选择倍率的旋钮拨至“×10 Ω”的档时,测量时指针偏转角很大,为了提高测量的精确度,应将选择开关拨至_________档(选填“ ×100Ω”“ ×1 Ω”),将两根表笔短接调节调零旋钮,使指针停在0 Ω刻度线上,然后将两根表笔分别接触待测电阻的两端,若此时指针偏转情况如图所示,则所测电阻大小为________ Ω

4)乙图是该多用表欧姆档“×100 Ω”内部电路示意图,电流表满偏电流为1.0mA、内阻为10Ω,则该欧姆档选用的电池电动势应该为________V

 

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气垫导轨上相隔一定距离的两处安装有两个光电传感器ABAB间距为L,滑块P上固定一遮光条,P与遮光条的总质量为M,若光线被遮光条遮挡,光电传感器会输出高电压,两光电传感器采集数据后与计算机相连。滑块在细线的牵引下向左加速运动,遮光条经过光电传感器AB时,通过计算机可以得到如图乙所示的电压U随时间t变化的图象。

1)实验前,按通气源,将滑块(不挂钩码)置于气垫导轨上,轻推滑块,当图乙中的t1______t2(选填“>”“=”“<”)时,说明气垫导轨已经水平。

2)用螺旋测微器测遮光条宽度d,测量结果如图丙所示,则d=_______mm

3)将滑块P用细线跨过气垫导轨左端的定滑轮与质量为m的钩码Q相连,将滑块P由图甲所示位置释放,通过计算机得到的图象如图乙所示。利用测定的数据,当关系式=_____成立时,表明在上述过程中,滑块和钩码组成的系统机械能守恒。(重力加速度为g,用题中给定的物理量符号表达)

 

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如图所示,水平光滑的平行金属导轨,左端接有电阻R,匀强磁场B竖直向下分布在导轨所在的空间内,质量一定的金属棒PQ垂直导轨放置。今使棒以一定的初速度v0向右运动,当其通过位置ab时,速率分别为vavb,到位置c时棒刚好静止。设导轨与棒的电阻均不计,abbc的间距相等。则金属棒在由ab和由bc的两个过程中( 

A. 通过棒横截面积的电荷量相等

B. 棒动能变化量相等

C. 回路中产生的内能相等

D. 安培力冲量相等

 

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高压输电是减小输电电能损耗和电压损失的有效途径,中国已投产运行的1000kV特高压输电是目前世界上电压最高的输电工程.假设甲、乙两地原采用500kV的超高压输电,输电线上损耗的电功率为P=100kW,损失的电压为U=40V.在保持输送电功率和输电线电阻都不变的条件下,改用1000kV特高压输电,若不考虑其他因素的影响, 输电线上损耗的电功率变为P',损失的电压变为U',则

A. P'=25kW B. P' = 50kW C. U'=10V D. U' = 20V

 

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如图所示,MN为同一竖直线上相距为h的两点,空间存在竖直平面内方向未知的匀强电场,一带点小球(m+q)从M点以速度 水平抛出,刚好能够通过N点,过N点时速度大小,重力加速度为g,则

A. 电场强度E= B. 电场强度E=

C. 小球从MN点用时t= D. 小球从MN点用时t=

 

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