单晶硅是信息产业中重要的基础材料。通常用碳在高温下还原二氧化硅制得粗硅(含铁、铝、硫、磷等杂质),粗硅与氯气反应生成四氯化硅(反应温度450-500°C),四氯化硅经提纯后用氢气还原可得高纯硅。以下是实验室制备四氯化硅的装置示意图。
相关信息如下: a.四氯化硅遇水极易水解; b.硼、铝、铁、磷在高温下均能与氯气直接反应生成相应的氯化物; c.有关物质的物理常数见下表:
请回答下列问题: (1)写出装置A中发生反应的离子方程式 。 (2)装置A中g管的作用是 ;装置C中的试剂是 ;装置E中的h瓶需要冷却理由是 。 (3)装置E中h瓶收集到的粗产物可通过精馏(类似多次蒸馏)得到高纯度四氯化硅,精馏后的残留物中,除铁元素外可能还含有的杂质元素是 (填写元素符号)。 (4)为了分析残留物中铁元素的含量,先将残留物预处理,是铁元素还原成Fe2+ ,再用KMnO4标准溶液在酸性条件下进行氧化还原滴定,反应的离子方程式是: ①滴定前是否要滴加指示剂? (填“是”或“否”),请说明理由 。 ②某同学称取5.000g残留物,预处理后在容量瓶中配制成100ml溶液,移取25.00ml,试样溶液,用1.000×10-2mol· L-1KMnO4标准溶液滴定。达到滴定终点时,消耗标准溶液20.00ml,则残留物中铁元素的质量分数是 。
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下图是多种无机物在一定条件下的转化关系(部分产物及反应条件未列出。)K是形成光化学烟雾及形成酸雨的一种主要气体,N为第三周期元素组成的单质熔点最高的金属,FeS2是一种矿石的主要成份,常用来生产一种重要的强酸。
回答: (1)在周期表,组成单质L的元素位于第 周期第 族。 (2)K的名称为 ,G的化学式 ; (3)写出反应⑤的离子方程式: 写出⑩的离子方程式: (4)反应⑦中,若转移9 mol电子,生成的L g。
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某100mL溶液中仅含下表离子中的5种离子(不考虑水的电离及离子的水解),且各离子的物质的量均为0.1mol。
①若向原溶液中加入KSCN溶液,无明显变化。 ②若向原溶液中加入过量的盐酸,有气体生成,溶液中阴离子种类不变。 ③若向原溶液中加入溶液,有白色沉淀生成。 试回答下列问题: (1)原溶液中所含阳离子是(写离子符号,后同) ,阴离子是 。 (2)若向原溶液中先加入少量盐酸,再滴入KSCN溶液,实验中所发生反应的离子方程式是 、 。
(3)若向原溶液中加入足量溶液,充分反应后静置一段时间,过滤、洗涤、灼烧,最终所得固体的质量是 。 (4)向原溶液中加入足量盐酸后,用排水法收集所产生的气体并使气体恰好充满容器,仍将容器倒置于水槽中,再向容器中通入 mL(气体体积均指标准状况),能使溶液充满该容器。
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某反应中反应物与生成物有:、、、、、和一种未知物质X。 (1)已知在反应中得到电子,则该反应的还原剂是 。 (2)已知0.2mol在反应中得到1mol电子生成X,则X的化学式为 。 (3)根据上述反应可推知 。 a.氧化性: b.氧化性: c.还原性: d.还原性: (4)将氧化剂和还原剂的化学式及其配平后的系数填入下列方框中,并标出电子转移的方向和数目:
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在a L Al2(SO4)3和(NH4)2SO4的混合溶液中加入b mol的BaCl2,恰好使溶液中的SO42-完全沉淀;如加入足量强碱并加热可得到cmolNH3,则原溶液中的Al3+的浓度(mol/L)为 ( ) A. B. C. D.
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2 mol过氧化钠与2 mol碳酸氢钠固体混合后,在密闭的容器中加热充分反应,排出气体物质后冷却,残留的固体物质是 ( ) A.Na2CO3 B.Na2O2 Na2CO3 C.NaOH Na2CO3 D.Na2O2 NaOH Na2CO3
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